石英粉是用纯石英（天然石英或熔融石英）经破碎、拣选、清洗、酸处理、高温熔化、中碎、细磨、分级、除铁等多道工序加工而成的符合使用要求的粉体。石英粉分干法和水法两种生产方式，各种常规规格：100M，150M，200M，325M，400M，600M，1500M及2000M(M为目数)。另外也可按客户要求加工异型规格，要求粒度分布的一般也可加工。石英粉不分等级，只分规格。因其具备白度高，无杂质、铁量低等特点，故应用范围广。
应用范围：
一、玻璃：平板玻璃、浮法玻璃、玻璃制品（玻璃罐、玻璃瓶、玻璃管等）、光学玻璃、玻璃纤维、玻璃仪器、导电玻璃、玻璃布及防射线特种玻璃等的主要原料。
二、陶瓷及耐火材料：瓷器的胚料和釉料，窑炉用高硅砖、普通硅砖以及碳化硅等的原料。
三、建筑：混凝土、胶凝材料、筑路材料、人造大理石、水泥物理性能检验材料（即水泥标准砂）等
四、化工：硅化合物和水玻璃等的原料，硫酸塔的填充物，无定形二氧化硅微粉
五、机械：铸造型砂的主要原料，研磨材料（喷砂、硬研磨纸、砂纸、砂布等）
六、电子：高纯度金属硅、通讯用光纤等
七、橡胶、塑料：填料（可提高耐磨性）
八、涂料：填料（可提高涂料的耐候性）。
九、冶金：硅金属、硅铁合金和硅铝合金等的原料或添加剂、熔剂 。
十、航空、航天：其内在分子链结构、晶体形状和晶格变化规律，使其具有的耐高温、热膨胀系数小、高度绝缘、耐腐蚀、压电效应、谐振效应以及其特的光学特性。
常用包装为25KG和50KG.
石英粉分干法和水法两种生产方式，各种常规规格：120M，200M，260M，325M，600M,800M,1000M及2000M(M为目数)。另外也可按客户要求加工异型规格，要求粒度分布的一般也可加工。
石英粉、石英砂、硅微粉的分类如下：
普通石英砂(粉)，精制石英砂，高纯石英砂，熔融石英砂及硅微粉等等。
胶水填充料用的石英粉可以依照结晶与否，分成结晶型石英粉（CAS：14464-46-1）与非结晶型（不定型）石英粉（CAS：60676-86-0）。前者价格较低，导热系数较高；后者热膨胀系数较低，尺寸安定性较佳。结晶型石英粉大多是从天然的石英矿中开采获得的；非结晶型（不定型）石英粉是将结晶型石英粉在高温中融化，再快速降温淬火所得到的，所以又称为熔融型石英粉。这两种石英粉又会因为形状的不同而有不规则状或者是球状等种类。前者吸油量较大，具有抗龟裂特性；后者吸油量较低，能够获得很大的填充量。
超细石英粉可以达到3000目，国内少数几家生产，此类产品应用基本都属于精细化工，属于战略资源。石英粉具体介绍如下：
由高纯石英粉经的超细研磨工艺加工而成的产品我们一般称之为硅微粉，也可称为超细石英粉,是用途极为广泛的无机非金属材料.具有介电性能、热膨胀系数低、导热系数高、悬浮性能好等优点.因其具有优良的物理性能、的化学稳定性、特的光学性质及合理、可控的粒度分布。
微硅粉的细度：硅灰中细度小于1微米的占80%以上，平均粒径在0.1～0.3微米，比表面积为：20～28m²/g。其细度和比表面积约为水泥的80～100倍，粉煤灰的50～70倍。石英粉常用规格为400目，800目，1000目，1500目及2000目。
硅微粉能够填充水泥颗粒间的孔隙，同时与水化产物生成凝胶体，与碱性材料氧化镁反应生成凝胶体。在水泥基的砼、砂浆与耐火材料浇注料中，掺入适量的硅灰，可起到如下作用：
⒈显著提高抗压、抗折、抗渗、防腐、抗冲击及耐磨性能。
2.具有保水、防止离析、泌水、大幅降低砼泵送阻力的作用。
⒊显著延长砼的使用寿命。
⒋大幅度降低喷射砼和浇注料的落地灰，提高单次喷层厚度。
⒌是高强砼的必要成份，已有C150砼的工程应用。
⒍具有约5倍水泥的功效，在普通砼和低水泥浇注料中应用可降低成本，提高耐久性。
⒎有效防止发生砼碱骨料反应。
⒏提高浇注型耐火材料的致密性。在与Al2O3并存时，更易生成莫来石相，使其高温强度，抗热振性增强。
微硅粉的生产方法主要有：
，三氯氢硅法将干燥的硅粉加入合成炉中，与通入的干燥氯化氢气体在280～330℃有氯化亚铜催化剂存在下进行氯化反应，反应气体经旋风分离除去杂质，再用氯化钙冷冻盐水将气态三氯氢硅冷凝成液体，经粗馏塔蒸馏和冷凝，除去高沸物和低沸物，再经精馏塔蒸馏和冷凝，得到精制三氯氢硅液体。纯度达到7个“9”以上、杂质含量小于1×10-7，硼要求在0.5×10-9以下。提纯后的三氯氢硅送入不锈钢制的还原炉内，用超纯氢气作还原剂，在1050～1100℃还原成硅，并以硅芯棒为载体，沉积而得多晶硅成品。
第二，用SiO2含量大约为95%的硅石和灰分少的焦炭混合，加热到1900℃左右进行还原。此方法制得的硅纯度为97%～98%，被称作金属硅。再将金属硅融化后进行重结晶，用酸除去杂质，得到纯度为99.7%～99.8%的金属硅。如要将它做成半导体用硅，还要将其转化成易于提纯的液体或气体形式，再经蒸馏、分解过程得到多晶硅。如需得到高纯度的硅，则需要进行进一步的提纯处理。
第三， 用SiO2含量大约为95%的硅石和灰分少的焦炭混合，用1000～3000kVA开式电弧炉，加热到1900℃左右进行还原。
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