真空均质乳化机是集混合、分散、均质、乳化及吸粉多功能于一体的成套系统，带有电控系统，也可配合外围油、水相罐，真空，加热/冷却系统等使用。是生产药用软膏、膏霜、乳液等的设备。
在高粘性乳化物，特别是膏霜，软膏，乳剂类产品的制造工艺中，通常成问题的是分散相的粒径大和搅拌时把空气混入制品中，粒径过大导致乳状物不稳定，缺少光泽，制品中混入空气则会使制品气泡化，细菌污染，易氧化及外观不光滑。针对两大问题，我公司开发出的ZJR系列真空均质乳化机组，由均质搅拌器，中心叶片搅拌，刮壁搅拌各自具有的特点相辅相成，组合成佳的搅拌方式，以达到混合制品。采用抽真空的方式，使所生产的制品在搅拌过程中不再混入气泡，从而可制造出富有光泽，细腻及延展性良好的产品。
研磨介质填充率从40%增加至75%时，运行电流曲线呈上升趋势，反映砂磨机中的研磨介质得到充分搅动，能量需求变化大；填充率在75%-85%，运行电流曲线变化平稳，反映砂磨机中的介质达到一个平衡点，能量需求稳定；填充率大于85%，运行电流曲线变化呈下降趋势，反映砂磨机中的研磨介质过量，研磨介质与分散盘之间有滑动现象，分散盘不能带动所有研磨介质运动，能量需求降低。因此，根据砂磨机的电流变化曲线可知，研磨介质适宜的填充率为80%。[1]
