溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。
多功用磁控溅射镀膜系统，由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完结薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体气氛下进行样品的寄存、制备以及蒸镀后样品的检测。蒸腾镀膜与手套箱组合，实现蒸镀、封装、测验等工艺全封闭制造，使整个薄膜生长和器材制备过程高度集成在一个完整的可控环境气氛的系统中，消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响，保障了高功用、大面积有机光电器材和电路的制备。
前期清洗真空镀膜机可以减少很多麻烦，避免溅射镀膜机的很多小问题，对真空镀膜机的工作效率和镀膜质量有非常积极的作用。它可以大大提高真空系统中所有壁面和其他部件表面在各种工况下的工作稳定性。这些工作条件包括:高温、低温以及电子、离子、光子或重粒子的发射和轰击。
与传统的镀膜方法相比，真空镀膜属于干法镀膜，其主要方法有以下几种:
1.真空蒸发
其原理是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发材料使其蒸发或升华，蒸发的离子流直接射向基片，在基片上沉积固体薄膜。
2.溅射涂层
溅射镀膜是一种真空条件，在阴极施加2000V高压激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极喷出原子。溅射的原子通过惰性气氛沉积在衬底上形成薄膜。17_副本.jpg
3.离子电镀法
即干式螺杆真空泵制造商已经推出的真空离子涂层。它是在上述两种真空镀膜技术的基础上发展起来的，所以具有两者的工艺特点。在真空条件下，工作气体或蒸发物质(膜材料)通过气体放电被部分电离，蒸发物质或其反应物在离子轰击下沉积在基片表面。在成膜的过程中，衬底总是受到高能粒子的轰击，这使得它非常干净。
4.真空卷绕涂层
真空镀膜是通过物理气相沉积在柔性基板上进行连续镀膜的技术，以实现柔性基板的某些功能性和装饰性。
检查泄漏情况是真空镀钛机真空度的一种检查方法，简称检漏。真空的凹凸度直接影响镀膜的作用，因此检漏是的。通常情况下，真空室的漏气是由腔壁上的一些孔或元件前的薄接头引起的。抽气系统抽气时，真空室内压力降低。内外压差使气体从外部高压流向低压真空室，造成真空度降低。
在检漏过程中，为了做好检漏工作，有必要注意一些问题。
，检查虚漏是否仍为实漏，因为工件数据加热后会出现不同程度的气体，有可能被误认为是从外部流出的气体，这就是虚漏，要消除这种情况。
第二，测试真空室的气密性功能，确保气密性功能符合要求。
三、检查漏孔的大小、形状、方位、漏速，编制解决方案并实施。
四、得出检测仪器检漏的检出率和灵敏度，要检查刻度的泄漏情况，防止一些泄漏孔被疏忽，提高泄漏检测的准确性。
五、掌握检漏仪的反应时间和消除时间，把握好时间，检漏仪操作到位，时间少，检漏功能一定差，时间长，浪费检漏气和人工电。
六、还要防止泄漏堵塞，有时由于操作失误，在检漏过程中，一些灰尘或液体将泄漏堵塞，认为孔的方向没有泄漏，但当由于内外压差进展或其他原因导致泄漏孔未堵塞时，泄漏仍在那里。
