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800.00元高纯镁靶材 金属镁颗粒 Mg Target 金属溅射靶材 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.907月31日 -
1200.00元氧化铝靶材Al2O3 Target 陶瓷溅射靶材 氧化铝颗粒 氧化铝靶材 三氧化二铝靶材 纯度：99.99% 分子式：Al2O3 分子量：101.96 CAS号：1344-28-1 密度：4 熔点：2045℃ 折射率:1.6-1.65..12月13日
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1500.00元氧化镁靶材 MgO靶材 氟化镁靶材 陶瓷溅射靶材 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.907月31日
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1.00元溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子12月10日
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1.00元溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子10月28日
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1.00元高纯钼靶是AMOLED面板生产中的关键原材料之一，该公司的新产品是适用于TFT-LCD/AMOLED的超宽高纯高密钼平面溅射靶材，主要应用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填补了国内宽幅钼靶(1800mm)空白，..09月18日
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产品名称：钼靶材 纯度: 99.95% 密度：≥10.2g/cm3 尺寸范围：--- (可根据客户需求定制） 外 观：在显微镜下观察，管子内外表面呈现出均匀的金属光泽，无氧化、氢化变色、划伤、变形、毛08月17日
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800.00元金属铋靶材 高纯铋靶 Bi Target 金属溅射靶材 铝，高纯铝,高纯铝丝，高纯铝粒，高纯铝片，高纯铝靶，铝蒸发料，铝电极 铜，高纯铜，高纯铜丝，高纯铜片，高纯铜粒，铜靶，铜蒸发料，铜07月31日
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315.00元铜（Copper），元素周期表中原子序数29，原子量63.546。密度8.92g/cm³，熔点1083.4±0.2℃，沸点2567℃，铜是一种呈紫红色光泽的金属，稍硬，极坚韧，耐磨损，有很好的延展性、较好导热性、导电..07月14日
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高纯钼靶是AMOLED面板生产中的关键原材料之一，该公司的新产品是适用于TFT-LCD/AMOLED的超宽高纯高密钼平面溅射靶材，主要应用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填补了国内宽幅钼靶(1800mm)空白，..08月27日
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我们生产的钽片参数：电阻率13.5µOhmcm温度系数0.00350K⁻¹体积模量196.3 GPa抗拉模量185.70 GPa密度16.600 g/cm³ 沸点5425°C熔点2996.00°C热膨胀系数6.500x10⁻⁶ K..12月17日
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高纯钼靶是AMOLED面板生产中的关键原材料之一，该公司的新产品是适用于TFT-LCD/AMOLED的超宽高纯高密钼平面溅射靶材，主要应用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填补了国内宽幅钼靶(1800mm)空白，..05月25日
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12.60元我们生产的钽片参数：电阻率13.5µOhmcm温度系数0.00350K⁻¹体积模量196.3 GPa抗拉模量185.70 GPa密度16.600 g/cm³ 沸点5425°C熔点2996.00°C热膨胀系数6.500x10⁻⁶ K..12月02日
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378.00元铁的颜色是金属灰色，具有延展性、铁磁性，熔点为1535°C，密度为7.86g/cm3，广泛纯在于大量的产品中，包括工具、汽车和机器等，铁还具有生物重要性，因为它负责血液中的氧运输，它在真空下蒸..12月01日
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