兴宁氧化锆珠回收

深圳市华宇金属材料有限公司位于深圳市的中部工业发达区龙华。公司产品延续深圳市新兴金属科技有限公司，创建于2005年，向PCB电镀、化工厂家、化工设备，真空离子镀膜、吸气剂、铬锆铜合金、磁性材料，铝锆中间合金，等离子切割等领域的厂家供应有色金属的钛，锆，铪，铌，钽等的原材料及产品：
1）金属钛、结晶钛、钛板，钛丝、钛棒、钛卷带、钛箔、钛篮、钛包铜、钛管、钛冷却管、钛螺丝等。
2）金属锆、高纯锆、海绵锆，碘化锆、结晶锆、锆锭、锆篮、锆靶、锆屑、锆边角、锆棒、锆板、锆管、锆钢反应釜罐，锆盘管，锆冷却管，锆丝、锆箔、锆带、锆舟、锆杯、锆螺丝、锆包铜，锆铁，铝锆中间合金等。
3）结晶铪，高纯铪，海绵铪，铪丝、铪靶、铪棒、铪下角料、铪锭、铪屑等。4）金属钽，钽板，钽丝，钽棒，钽靶等。
5）金属铌，铌锭，铌板，铌棒，铌板，铌粉等。
公司和内地、台湾、韩国、泰国的许多企业建立了长期的合作关系。公司秉诚以诚信为本、质量、用户至上的经营理念，坚持“诚实守信，精益求精”的精神宗旨，竭诚为广大厂商提供的产品和服务，确保公司与客户的持续发展。

磁控溅射原理：锆靶在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。 磁控溅射一般分为二种：支流溅射和射频溅射，其中支流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。

各种类型的溅射薄膜材料，铪靶，锆靶在半导体集成电路(VLSI)、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代以来，溅射靶材及溅射技术的同步发展，地满足了各种新型电子元器件发展的需求。例如，在半导体集成电路制造过程中，以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝膜布线：在平面显示器产业中，各种显示技术(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步发展，有的已经用于电脑及计算机的显示器制造；在信息存储产业中，磁性存储器的存储容量不断增加，新的磁光记录材料不断推陈出新这些都对所需溅射靶材的质量提出了越来越高的要求，需求数量也逐年增加。
市场概况
日本。就美国而言．约有50家中小规模的靶材制造商及经销商，其中大的公司员工大约有几百人。不过为了能更接近使用者，以便提供更完善的售后服务，主要靶材制造商通常会在客户所在地设立分公司。近段时间，的一些国家和地区，如台湾．韩国和新加坡，就建立了越来越多制造薄膜元件或产品的工厂，如IC、液晶显示器及光碟制造厂。
对靶材厂商而言，这是相当重要的新兴市场。中国靶材产业发展也是与日俱增，不断的扩大自己的规模和生产技术，国内一线生产制造靶材的已经达到国外的技术水平。2010年，日本三菱公司就在中国台湾地区建立了光碟埘靶材的生产基地，可以满足台湾50%的靶材需要。

可根据用户需要制作。
锆盘管换热器:
规格；标准规格，功率有1.5KW-50KW,
形态；根据加热功率，可制成“L”型，“U” “0"型等，并可附有过热保护装置。
用途；适用于钛无法胜任的酸、碱介质中（氢氟酸除外）。
在聚合物的生产中，锆的应用是代替石墨作热交换器。锆热交换器的成本虽比石墨约高4倍，比钛约高 2倍，但它足以弥补成本费。

名　　称：锆管
规　　格：Φ8.0—89.0（外直径）╳ 1.0—10.0（壁厚）╳ L（长）mm
状　　态：退火
主要性能： 抗拉强度HB>379Mpa 导热率=0.040Cal/cm2 （可以弯成需要的形状）
应用领域：油箱盘管、壳管热交换器、热虹吸管、蒸发器、卡口加热器和人造丝丝囊、管壳式换热器,列管式换热器,加热管,管式预热器、化工设备反应釜盘管等。
例如：在蒸气压力为239000Pa，温度为373K，管中流体含5%硫酸、3%、6%硫酸钠的条件下，用锆盘管代替铅盘等，使用寿命在10年以上。

磁控溅射靶材：锆靶，铪靶
磁控溅射靶材种类：
金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材，氮化物陶瓷溅射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材，硅化物陶瓷溅射靶材，硫化物陶瓷溅射靶材，碲化物陶瓷溅射靶材，其他陶瓷靶材，掺铬一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO），磷化铟靶材（InP），化铅靶材（PbAs），化铟靶材（InAs）。 [2]


磁控溅射原理：
在被溅射的靶极（阴极）与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体（通常为Ar气），磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还可进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，如今，常用的有电子回旋共振(ECR）型微波等离子体溅射。

我们曾在多种农药设备上进行过工业锆的应用研究，如在农药反应罐中进行了锆的实际应用与挂片试验。农药水解反应的条件为：20%硫酸+甲萘胺；温度220-250℃；15个大气压（1520kPa)，一个流程时间为7h，在此条件下设备腐蚀严重，1mm厚普通钢板，反应后即腐蚀穿孔。原采用罐内搪12- 14mm厚的铅层为防腐层，则易污染环境，铅的抗腐蚀也较差，一个搪铅反应罐，仅能使用50-60批料即穿孔漏液。锆挂片试验条件为：生产介质20%硫酸+甲萘胺；生产200-250℃；压力14-15个大气（1419- 1520kPa)。结果表明，随时间增加，锆母材与焊缝区氧含量稍有增加，但增加速度较缓，对锆的力学性能未引起恶化。而氢含量却在这种介质腐蚀中逐渐下降，可减少脆性，对锆有利，年腐蚀率仅为 0.024-0.04mm/a。

锆管-----玻璃钢反应釜有如下优点：
1、使用寿命长，至少3年以上。
2、免维护，省却设备的维修费用及停工成本费用。
3、高工效，因锆金属导热性能强，其加热及降温速度快。5方母液、8平方换热面积，从120℃降至40℃不超过90分钟。蒸汽与冷却水可随时切换。
4、安全性能高，由于玻璃钢的柔韧性，不会像普通釜那样由于掉黏而被迅速腐蚀，产生漏液的危险。
5、耐腐蚀性能更优，能耐住气态氯及气态氢的混合腐蚀，在双甘膦及草甘膦的生产中优势更为明显。

化工反应釜的工作方式：
一般与瑭玻璃钢反应釜配合，作蒸汽加热或水冷却之用。管内大压力根据臂厚不同可承受压力６～２０㎏，换热面积按设计要求制作。
1、程度远比（搪玻璃反应釜）高出３－５倍（一但搪玻璃釜内胆磕碰，掉釉，寿命只有4-12个月）
2、加热或冷却效率比（搪玻璃反应釜）在单位容器，单位时间快6个小时，也就是说如果改用锆盘管换热，两台釜可以出来三台的产量。
3、我公司有丰富的改装，维护，施工经验。
如果有对此产品有兴趣的朋友可以给我电话，一起探讨，用锆材的换热器价格肯定比搪玻璃的贵，比方一套6300L的釜，使用R60702锆材盘管换热器价格大概15W，但是经过我公司改装过的和新上这种设备的客户在使用后，对本产品都是肯定的，贵的值得，贵的有道理，不论是在经济上（假以时日锆换热器还是比搪玻璃经济），还是在生产（产量），维护上（零维护），比使用搪玻璃换热的要好的多