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电路
臭氧发生器电路由三极管VT1、VT2与电感线圈L1一13、脉冲变压器T、限流电阻器R1、充电电容器C3,双向触发二极管叨5等组成推挽振荡电路；滤波电感线圈L0,整流二极管VD1与滤波电容器C1、C2等组成半波整流滤波电路。 接通电源，交流220V电压经LO滤波，VD1整流后，在C1两端产生十280V左右的电压，供给推挽振荡电路。 在开机瞬间，VT1导通。由于C3的充电作用，双向触发二极管VD5截止。当C3两端的充电电压升至32V时，VD5被触发而导通，使VT2导通。在VT2导通期间，C3逐渐放电，又使VT2截止。VTl导通后，在脉冲变压器T的作用下，L1、L2上产生正反馈电压，此电压分别加至VTl和VT2的基极，使VTl和VT2交替导通与截止（即VTl导通时，VT2截止；VT2导通时，VTl截止），推挽振荡电路振荡工作。 推挽振荡电路工作后，在脉冲变压器T的二次侧绕组L6上产生脉冲高压，使臭氧发生片VG工作，产生臭氧。
同时，发光二极管VD7也点亮工作。 元器件选择 VTl、VT2选用2SC2653或BU406型硅NPN高反压三极管。要求电流放大系数β>100。 VDl一VD4、VD6选用1 N4007型整流二极管；VD5选用DB3型双向触发二极管。 R1一R6全部选用RJ一1/8W型金属膜电阻器。 L0为5mH的磁心电感线圈，可用Φ0.25mm的漆包线在骨架上绕210匝；L1一璐用Φ0.2mm的单心塑铜线在同一磁环上绕制而成，其中L1、L2分别绕3匝，L3绕9匝。脉冲变压器T可使用14in（英寸）黑白电视机行输出变压器改制，改制时用高压包作为L6，在低压包骨架上用Φ0.45mm的漆包线绕168匝作为L4，用Φ0.23mm的漆包线绕4匝作为L5（在外层绕制）。 臭氧发生片VG选用Z二10或Z一15、Z一20等型号。 制作与调试 除臭氧发生片VG外所有电子元器件安装在一块自制的印制电路板上，并将其装人大小合适的塑料或木制盒内。在盒面开孔固定发光二极管VD7，接上臭氧发生片VG，只要元器件良好、接线无误，通电即能正常工作。
安装
1）、臭氧发生器安装在制水车间和灌装车间之外（尤其严禁安装在狭小、潮湿的制水或灌装车间），保持发生器工作环境通风及空气干燥，该空间安装排风扇。
2）、臭氧发生器安装位置应地面1.2m以上，有条件时可贮水罐1～2m。臭氧输送管路和单向阀贮水罐1～2m。
3）、具体产品的施工安装要点需详见说明书。
工艺流程
得到臭氧消毒水的工艺流程如下：
空 气 → 制氧系统 → 臭氧发生系统
↓
水 源 → 气液混合系统 → 臭氧水
120kg/h大型臭氧发生器及其系列产品可广泛应用于市政饮用水处理、污水处理、工业废水处理、烟气脱硝、纸浆漂白、精细化工氧化等领域，是国家“十二五”以及未来在饮用水安全、环境保护和节能减排等方面“转方式，调结构”的重要发展方向，也是我国面向环保工程应用并可替代进口的重大技术装备。
贵州科为环保科技有限公司（广州粤佳环保科技有限公司）是2020年从广州招商引资而来，入驻贵州省安顺市西秀产业科技园（D4栋、面积5000平方米）,注册资金3000万元。公司以研发生产各种臭氧发生器、臭氧配件、臭氧电源、臭氧消毒柜配件、臭氧浓度检测仪、空气净化器、臭氧机、制氧机、臭氧设备等。强大的研发与开发技术团队，造就了公司如今雄厚的技术实力。
公司从1992年在广州开始研发臭氧（化学式O3）技术，至今已有近三十年历史。在这个历程中，公司研发中心与德国、美国、日本、中国科学院、江苏大学、浙江大学、上海交大、清华大学不断进行研究交流和开发实践，使公司研发实力得以更深层次的提高。
臭氧的研发与运用给人类带来了重大的福音，让人类赖以生存的自然环境得以突破性的治理及环境修复。无论在医疗卫生、环境治理、人类健康、大气层以及水源治理、畜牧养殖等...都是重大的科技突破和重大贡献。本公司为环保高科技外向型企业，拥有雄厚的科研创新开发实力及技术力量。公司具有优良的检测设备，完善的管理体系。多年来不断创新研制新型产品，保持产品始终处于同行业技术领域的，产品美国，巴西、西班牙、澳大利亚、新西兰，新加坡、韩国、日本等国家。公司所生产的臭氧发生器质量稳定可靠且类型多样，各项技术指标符合臭氧行业标准，已被广泛地应用于，医疗、自来水厂、化工、公共场所、会议室、学校、公共食堂、家庭、食品加工、制药厂、净水杀菌净化、水产养殖加工、家禽，畜牧养殖基地、空间消毒杀菌、易腐食品贮藏保鲜、医疗卫生器械、化妆品等行业，并且使用臭氧杀菌不会带来二次污染和其它副作用的保障。臭氧发生器强力的消毒杀菌功效，在欧美以及亚洲发达国家在以上行业应用上得到高度认知和信赖。
公司一贯坚持“严谨、、求实、诚信”的研发、生产经营信念，来不断开拓和发展壮大公司。让臭氧（化学式O3）强力的消毒杀菌功效惠及人类及动植物的健康生存。我们将一如既往地不断进行深层次的研发和创新，谋求更大的科技研发空间。
