碳化硅清洗剂
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碳化硅清洗剂SC181是我司专为碳化硅晶片超精密加工研发的水基清洗剂，可以彻底清除碳化硅晶片表面的微尘、细微颗粒物、有机物、金属离子、金属氧化物、残留抛光液等污染物。 利用化学剥离的原理有效将键入在硅片表面的各种污染物去除，清洗剂中的活性物质可以吸附在硅片表面，使其长期处于易清洗的物理吸附状态（>120h），而不像难清洗的化学吸附状态转化，并在表面形成保护层，防止颗粒的二次吸附，实现了把有害
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