DF268切割液采用非离子表面活性剂和其他功能成分配制，可应用于半导体晶圆切割工艺。它有效地消除硅尘颗粒，提供低和快速坍塌的泡沫轮廓，有助于阻止浓缩物或低稀释中的微生物生长活动，防止腐蚀，减少和中和静态电荷。除了清洁，
DF310激光切割液、可生物降解。搭配水分配系统可以实现自动上液。
北京汐源科技有限公司 晶圆划片保护液，隐形切割保护液。
DF268切割液可在1加仑桶和5加仑桶。
DF310由水溶性涂层和其他添加剂配制，以降低表面张力，形成保护层，润滑和湿基底表面，防止或减少碎屑、毛刺、硅屑和热中的腐蚀。
特的特点有效地消除了硅粉尘的堆积，防止锌腐蚀减少芯片，毛刺和开裂润滑和作为冷却剂，减少摩擦和热量增加，产生可生物降解
Ablestik：
导电银胶:主要经营有ABLEBOND 84-1A、84-1LMI、 84-1LMINB(B1)、 84-1LMISR4、84-1LMIT(T1)、 826-1DS、826-2、2600AT、2600BT、2185A、2030SC、2100A、3185、8290、8340、8360、8352L、968-2、979-1、71-1、JM7000等一系列产品,适用于半导体(IC)封装(如DIP/SOP/TO-92/BGA...)、LED(如普通发光二极管/LAMP/大功率管/数码管...)等领域,用于各种贴片、点胶、背胶等工艺.
绝缘胶:主要经营有ABLEBOND84-3、84-3J、84-3LV、84-3MV、789-3、789-4、2025D 、2025M、 2035SC 、8384、8387A、8387B、2039H、DX-10、DX-20-4等一系列产品,适用于半导体(IC)封装、摄像头(CMOS/CCD)工艺、LED、智能卡等领域,用于各种贴片、或有粘贴的等工艺.
UV胶:主要经营有ABLELUXHGA-3E、HGA-3S、A4021T、A4035T、A4039T、A4061T、A4083T、A4086T、A4088T、A4502、CC4310、AA50T 、BF-4 、OG RFI146T等一系列UV紫外固化胶,适用于光电、光电仪表、光纤、手机摄像头(CMOS)等领域;如手机摄像头Lens固定,光纤耦合器(Coupler),激光器(Laser),跳线(Jamper),衰减器(Attenuator),探测器(Detector)等。
胶膜:主要经营有ABLEFILM506 、508、550S、561K、566K、570K、5020、5020K、5025E等一系列产品,适用于各种电子产品,军产品,电源等。
底部填充胶：FP4450、UF1173、4531、4451等系列。
晶圆保护液是一种用于保护半导体晶圆表面的液体，它可以形成一层保护膜，防止晶圆表面受到环境污染或是受到微粒的损伤。
晶圆保护液的使用方法
1.清洗表面
在使用晶圆保护液之前，要先清洗晶圆表面。清洗的方法和步骤根据不同的晶圆类型和工艺要求会有所不同。在清洗完成之后，要保持表面干燥，并避免使用手指直接触摸晶圆表面。
2.涂抹液体
将适量的晶圆保护液滴在晶圆表面，并使用棉签或者的抛光布将其涂抹均匀。注意涂抹时不可用力过大，以免损伤晶圆表面。同时，还需要确保涂抹的液体量适当，不要过多或过少。
3.等待干燥
晶圆保护液涂抹完成之后，需要等待其干燥。干燥时间也根据不同的保护液品牌和稀释比例会有所不同。一般来说，需要等待半个小时至一个小时左右。
4.存储
使用完晶圆保护液后，需要将其存储在干燥、避光和低温的环境中。同时需要注意，不可与其他化学物品混合存放，以免影响液体品质。
注意事项
1.在涂抹晶圆保护液时，需要穿戴防静电衣服和手套，避免静电对晶圆造成损害。
2.不要在操作过程中对晶圆表面施加过大的压力，避免损伤晶圆表面。
3.每次使用前都需要检查液体的品质和是否过期，否则会影响保护效果。
4.不要将晶圆保护液涂抹在晶圆背面或是边缘，以免进入芯片区域。
5.晶圆保护液是一种易燃液体，不可接触明火。
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