离子渗氮：可以在辉光放电条件下，将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性，相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控，可用于各种钢铁及钛合金结构件，各种模具和各种不锈钢制品。
等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮，氮碳共渗)
等离子体化学气相沉积（PCVD）是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。在一定压力、温度的真空炉内，加入适当比例的不同工作气体，在脉冲电压的作用下，通过辉光放电产生均匀等离子体。在不同工艺条件下，可在被处理工件表面形成各种硬质膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多层复合膜等，显微硬度高达HV2000--2500。
利摘要显示，本申请关于一种真空镀膜自动加料装置，涉及真空镀膜领域。该真空镀膜自动加料装置包括支架，支架上安装有滑动机构，滑动机构上安装有驱动机构以及加料机构，驱动机构的动力输出端与加料机构传动连接；加料机构的上方还安装有储料罐，储料罐将粉料输送至加料机构内，加料机构与外部管式炉的进料口接驳；其中，储料罐上还安装有搅拌机构，搅拌机构将储料罐内的粉料均匀的输送至加料机构内。实现了在CVD过程中，粉末状态的蒸发材料（如派瑞林）少量、连续进入管式炉以进行后续的加热、升华、裂解工艺，既满足了蒸发材料的用量，又达到了实时动态调整进料量的目的，提升了镀膜效果，并实现了一种以上的蒸发材料复合镀膜的工艺需求。
悬浮式高真空卷绕式镀膜机的卷绕控制要求的转矩控制，以般采用直流驱动，但是随着交流驱动技术的飞速发展，现在逐步采用交流永磁同步伺服电机或交流异步电机驱动。丹佛斯FC302系列驱动器具有伺服级的驱动性能，驱动交流异步电机也有实现平稳的转矩控制，为这个行业提供了一种易用的解决方案，用户只需要设置几个简单的参数，就能满足实际生产需求，操作和调试也非常简便。
一、悬浮式高真空卷绕式镀膜机的传动结构：
放卷转向为正
放卷转向为负
3驱动悬浮式高真空卷绕式镀膜机的典型传动结构，其中：
M1为冷却辊，直径恒定，由一台FC302驱动，冷辊的速度即为镀膜的线速度。
M2为收卷辊，中心卷绕，直径逐步变大，由一台FC302驱动，提供收卷张力。
M3为放卷辊，中心卷绕，直径逐步变小，由一台FC302驱动，提供放卷张力。
冷却辊和收卷辊的转向是固定的，但是放卷辊由于卷筒卷绕方向不同，工作时有正、反两种转向，对应反、正两种转矩。
真空镀膜机传动系统的特点：
1.由于真空室狭小，无法安装张力检测装置，所以收、放卷张力完全要靠收、放卷驱动的电机直接控制。因此收、放卷驱动器都工作于转矩工作模式。对于较轻较薄的材料，收卷还有张力锥度功能。
2.由于工艺方面的原因，起主传动作用的冷却辊上没有压辊，因此冷却辊只能靠摩擦力带动薄膜；收、放卷张力相差较大时，薄膜很容易在冷却辊上打滑。如何防止打滑是驱动控制方面的难题。
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