在 2.45 GHz 频率下产生的微波具有产生等离子体的特优势。在这个频率下，微波可以有效地与气体的电子共振，从而提高电离效率。此外，2.45 GHz 频率允许使用相对较小的腔体尺寸，这对于紧凑型等离子体源的设计非常有用。 微波等离子体源具有多种应用，包括：
材料处理：微波等离子体源可用于表面处理、薄膜沉积和蚀刻工艺。它们可以帮助在各种材料上沉积薄膜，或改变材料的表面特性。
电子器件制造：ECR等离子体源在半导体工业中，微波等离子体源可用于清洁晶圆、蚀刻硅片和沉积薄膜层。其结构小巧，可以多个等离子体源组成等离子墙，或者不同形状以使之便于不同情况的工程应用。
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