离子渗氮:可以在辉光放电条件下,将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性,相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控,可用于各种钢铁及钛合金结构件,各种模具和各种不锈钢制品。
等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮,氮碳共渗)
等离子体化学气相沉积(PCVD)是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。在一定压力、温度的真空炉内,加入适当比例的不同工作气体,在脉冲电压的作用下,通过辉光放电产生均匀等离子体。在不同工艺条件下,可在被处理工件表面形成各种硬质膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多层复合膜等,显微硬度高达HV2000--2500。
发黑通常是由于过早氧化造成的。泛黄一般是因为铝源中含有杂质过多,一般纯度应在4 N或5N以上。无论是涂布机的真空度不达标,都要达到10—7倍Pa。(不准确)。涂敷物品的清洗不,表面残留有清洁剂和水。被涂物品表面温度不合理,温度过高或过低。涂层项目的潜在设置不合理。真空扩散泵油应更换。调节蒸发源的温度,不能太低或太高。如果电子束蒸发,电子束的轰击位置也应该调整。
1.在真空镀膜机运转正常情况下,开动真空镀膜机时,先开水管,工作中应随时注意水压。
2.在离子轰击和蒸发时,应特别注意高压电线接头,不得触动,以防触电。
3.在用电子枪镀膜时,应在钟罩外围上铝板。观察窗的玻璃好用铅玻璃,观察时应戴上铅玻璃眼镜,以防X射线侵害人体。
4.镀制多层介质膜的镀膜间,应安装通风吸尘装置,及时排除有害粉尘。
5.易燃有毒物品要妥善保管,以防失火中毒。
6.酸洗夹具应在通风装置内进行,并要戴橡皮手套。
7.把零件放入酸洗或碱洗槽中时,应轻拿轻放,不得碰撞及溅出。平时酸洗槽盆应加盖。
8.工作完毕应断电、断水。
需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过程,终形成薄膜。
今天给大家分享“耐高温黑色真空镀膜 膜层”这个主题是因为近遇到一个和我们日常生活息息相关的项目,我们浦元真空镀膜主打装饰性镀膜,膜层在智能穿戴、3C配件、钟表首饰等领域应用比较广泛,所以这篇文章对上述领域的五金配件厂家会比较有参考意义。大家如果有需要耐高温黑色真空镀膜膜层需求的可以关注下。
这个项目源起品牌方想让产品外观颜色更加多元化,进而想在锅柄、侧耳和提手上使用真空镀膜工艺,所以为这个厨具品牌代工的锅具配件加工厂就找到我们。该锅具配件要求黑色真空镀膜膜层在260℃高温下4小时不变色,对了客户的色板我们进行打样,结果次测试230℃的时候膜层就开始发彩。和品牌方沟通研讨后,我们改了工艺,第二次便顺利通过了高温烘烤测试并得到了美国品牌方的认可。其实,一开始品牌方提这个要求的时候我还是觉得挺极端的,但是考虑到使用环境后,我觉得可以理解。
直接的镀膜控制方法是石英晶体微量平衡法(QCM),这种仪器可以直接驱动蒸发源,通过PID控制循环驱动挡板,保持蒸发速率。只要将仪器与系统控制软件相连接,它就可以控制整个的镀膜过程。但是(QCM)的度是有限的,部分原因是由于它监控的是被镀膜的质量而不是其光学厚度。
此外虽然QCM在较低温度下非常稳定,但温度较高时,它会变得对温度非常敏感。在长时间的加热过程中,很难阻止传感器跌入这个敏感区域,从而对膜层造成重大误差。
光学监控是高精密镀膜的的监控方式,这是因为它可以更地控制膜层厚度(如果运用得当)。度的改进源于很多因素,但根本的原因是对光学厚度的监控。
OPTIMAL SWA-I-05单波长光学监控系统,是采用间接测控,结合汪博士开发的光学监控软件,有效提高光学反应对膜厚度变化灵敏度的理论和方法来减少误差,提供了反馈或传输的选择模式和大范围的监测波长。特别适合于各种膜厚的镀膜监控包括非规整膜监控。
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