电子器件制造:ECR等离子体源在半导体工业中,微波等离子体源可用于清洁晶圆、蚀刻硅片和沉积薄膜层。其结构小巧,可以多个等离子体源组成等离子墙,或者不同形状以使之便于不同情况的工程应用。
微波等离子体源的设计和操作可能很复杂,需要仔细控制微波功率、气体流量和压力等参数。此外,采取适当的安全预防措施,因为微波辐射和高电压可能存在危险。 总之,2.45GHz 微波等离子体源是一种强大的工具,在许多需要产生等离子体的应用中都有应用。它们提供了一种、灵活的方法来控制等离子体过程,从而实现各种工业和科学应用。
Sairem公司是法国一家专注于提供微波源、微波等离子体源的公司,它的微波源被广泛应用于PECVD法制造生长金刚石设备中,等离子体源用于清洗、喷溅、蚀刻等设备中。
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