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蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。
对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过程,终形成薄膜。
在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。
溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。
3. 开维持泵、真空计电源,真空计档位置V1位置,等待其值小于10后,再进入下一步操作。约需5分钟。
4. 开机械泵、予抽,开涡轮分子泵电源、启动,真空计开关换到V2位置,抽到小于2为止,约需20分钟。
5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后,关予抽,开前机和
高阀继续抽真空,抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头,观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。 1. 总电源。
2. 同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源:按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关,延时、电源及保护灯亮,三分钟后延时及保护灯灭,若后门未关好或水流继电器有故障,保护灯会常亮。
3. 开高压,高压会达到10KV以上,调节束流可到200mA左右,帘栅为20V/100mA,灯丝电流1.2A,偏转电流在1~1.7之间摆动。 1. 关高真空表头、关分子泵。
2. 待分子泵显示到50时,依次关高阀、前级、机械泵,这期间约需40分钟。
1)所需设备:CCZK-1850SFL连续式磁控镀膜流水线
2) 获得膜层:一层或多层金属,合金或金属化合物膜层
3)涂装流程: 玻璃产品的前处理清洗过程---进片上线台---粗抽室---过渡室---精抽室---缓冲室---镀膜室---后缓冲---精抽室---过渡室---粗抽室---出片下线台---淋漆流水线(如果需要)---包装成品
4)基本配置:
1.腔体结构:采用的卧式连续磁控镀膜流水线,配备前后粗抽室,前后过渡室,前后精抽室,前后缓冲室,彩镀室。
2.腔体材质:碳钢
3.靶材设计:采用新型旋极靶材以及平面阴极靶材。
4.电源配置:配备大功率中频或直流磁控溅射电源
5.电气控制:生产线采用PLC全过程控制,配备工业计算机人机交互系统,快速的节拍设计。
6.人机对话:控制系统能实现人、机对话,及时对生产过程进行必要干预。运行过程有报警提示和故障显示,故障显示能提示操作人员正确的操作和排故。
7.传动系统:滚轴传动,变频可调
8.可镀膜玻璃或平板,尺寸可定制
9. 生产线安采用了的插板阀进行腔室隔断,可以实现有效隔断,稳定工艺气体。
10.生产线采用了均匀进气管结构设计,气流注入均匀平缓;
11.泵抽系统:扩散泵组或分子泵组+机械泵+罗茨泵
5)需求配套设施:
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