抛光机操作的关键是要设法得到大的抛光速率以便尽快除去磨光时产生的损伤层同时也要使抛光损伤层不会影响终观察到的组织即不会造成假组织前者要求使用较粗的磨料以有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层但抛光损伤层也较深后者要求使用细的材料使抛光损伤层较浅但抛光速率低
解决这个矛盾的好的办法就是把抛光分为两个阶段进行粗抛目的是去除磨光损伤层这一阶段应具有大的抛光速率粗抛形成的表层损伤是次要的考虑不过也应当尽可能小其次是精抛或称终抛其目的是去除粗抛产生的表层损伤
使抛光损伤减到小抛光机抛光时试样磨面与抛光盘应平行并均匀地轻压在抛光盘上注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添粉悬浮液
