蚀刻（etching）又称为光化学蚀刻，是把材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术，可分为湿蚀刻（wet etching）和干蚀刻（dry etching）两种类型。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻（photochemical etching），指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
蚀刻是使用强酸切入金属表面未受保护的部分，以在金属上产生凹版设计(通过切割、雕刻或雕刻成平面来产生图像)的过程。作为一种凹版版画制作方法，它和雕刻一样，是旧原版版画重要的技术，至今仍被广泛使用。
蚀刻的必要性主要在于它能够通过化学或电化学作用，将金属或其他材料的表面转化为所需要的形状和图案。这种技术不仅能够大大简化产品的制造过程，还可以提高产品的质量和一致性。通过选择合适的蚀刻剂和工艺参数，还能实现对材料表面的保护和加工，使其具有更强的耐腐蚀性、耐磨损性等特性。
