3. 开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。
4. 开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。
5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽，开前机和
高阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。 1. 总电源。
2. 同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源：按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关，延时、电源及保护灯亮，三分钟后延时及保护灯灭，若后门未关好或水流继电器有故障，保护灯会常亮。
3. 开高压，高压会达到10KV以上，调节束流可到200mA左右，帘栅为20V/100mA，灯丝电流1.2A，偏转电流在1~1.7之间摆动。 1. 关高真空表头、关分子泵。
2. 待分子泵显示到50时，依次关高阀、前级、机械泵，这期间约需40分钟。
离子渗氮：可以在辉光放电条件下，将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性，相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控，可用于各种钢铁及钛合金结构件，各种模具和各种不锈钢制品。
等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮，氮碳共渗)
等离子体化学气相沉积（PCVD）是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。在一定压力、温度的真空炉内，加入适当比例的不同工作气体，在脉冲电压的作用下，通过辉光放电产生均匀等离子体。在不同工艺条件下，可在被处理工件表面形成各种硬质膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多层复合膜等，显微硬度高达HV2000--2500。
利摘要显示，本申请关于一种真空镀膜自动加料装置，涉及真空镀膜领域。该真空镀膜自动加料装置包括支架，支架上安装有滑动机构，滑动机构上安装有驱动机构以及加料机构，驱动机构的动力输出端与加料机构传动连接；加料机构的上方还安装有储料罐，储料罐将粉料输送至加料机构内，加料机构与外部管式炉的进料口接驳；其中，储料罐上还安装有搅拌机构，搅拌机构将储料罐内的粉料均匀的输送至加料机构内。实现了在CVD过程中，粉末状态的蒸发材料（如派瑞林）少量、连续进入管式炉以进行后续的加热、升华、裂解工艺，既满足了蒸发材料的用量，又达到了实时动态调整进料量的目的，提升了镀膜效果，并实现了一种以上的蒸发材料复合镀膜的工艺需求。
1）所需设备：CCZK-1850SFL连续式磁控镀膜流水线
2) 获得膜层：一层或多层金属，合金或金属化合物膜层
3）涂装流程： 玻璃产品的前处理清洗过程---进片上线台---粗抽室---过渡室---精抽室---缓冲室---镀膜室---后缓冲---精抽室---过渡室---粗抽室---出片下线台---淋漆流水线（如果需要）---包装成品
4）基本配置：
1.腔体结构：采用的卧式连续磁控镀膜流水线，配备前后粗抽室，前后过渡室，前后精抽室，前后缓冲室，彩镀室。
2.腔体材质：碳钢
3.靶材设计：采用新型旋极靶材以及平面阴极靶材。
4.电源配置：配备大功率中频或直流磁控溅射电源
5.电气控制：生产线采用PLC全过程控制，配备工业计算机人机交互系统，快速的节拍设计。
6.人机对话：控制系统能实现人、机对话，及时对生产过程进行必要干预。运行过程有报警提示和故障显示，故障显示能提示操作人员正确的操作和排故。
7.传动系统：滚轴传动，变频可调
8.可镀膜玻璃或平板,尺寸可定制
9. 生产线安采用了的插板阀进行腔室隔断，可以实现有效隔断，稳定工艺气体。
10.生产线采用了均匀进气管结构设计，气流注入均匀平缓；
11.泵抽系统：扩散泵组或分子泵组+机械泵+罗茨泵
5）需求配套设施：
直接的镀膜控制方法是石英晶体微量平衡法(QCM)，这种仪器可以直接驱动蒸发源，通过PID控制循环驱动挡板，保持蒸发速率。只要将仪器与系统控制软件相连接，它就可以控制整个的镀膜过程。但是(QCM)的度是有限的，部分原因是由于它监控的是被镀膜的质量而不是其光学厚度。
此外虽然QCM在较低温度下非常稳定，但温度较高时，它会变得对温度非常敏感。在长时间的加热过程中，很难阻止传感器跌入这个敏感区域，从而对膜层造成重大误差。
光学监控是高精密镀膜的的监控方式，这是因为它可以更地控制膜层厚度(如果运用得当)。度的改进源于很多因素,但根本的原因是对光学厚度的监控。
OPTIMAL SWA-I-05单波长光学监控系统，是采用间接测控，结合汪博士开发的光学监控软件，有效提高光学反应对膜厚度变化灵敏度的理论和方法来减少误差，提供了反馈或传输的选择模式和大范围的监测波长。特别适合于各种膜厚的镀膜监控包括非规整膜监控。
悬浮式高真空卷绕式镀膜机的卷绕控制要求的转矩控制，以般采用直流驱动，但是随着交流驱动技术的飞速发展，现在逐步采用交流永磁同步伺服电机或交流异步电机驱动。丹佛斯FC302系列驱动器具有伺服级的驱动性能，驱动交流异步电机也有实现平稳的转矩控制，为这个行业提供了一种易用的解决方案，用户只需要设置几个简单的参数，就能满足实际生产需求，操作和调试也非常简便。
一、悬浮式高真空卷绕式镀膜机的传动结构：
放卷转向为正
放卷转向为负
3驱动悬浮式高真空卷绕式镀膜机的典型传动结构，其中：
M1为冷却辊，直径恒定，由一台FC302驱动，冷辊的速度即为镀膜的线速度。
M2为收卷辊，中心卷绕，直径逐步变大，由一台FC302驱动，提供收卷张力。
M3为放卷辊，中心卷绕，直径逐步变小，由一台FC302驱动，提供放卷张力。
冷却辊和收卷辊的转向是固定的，但是放卷辊由于卷筒卷绕方向不同，工作时有正、反两种转向，对应反、正两种转矩。
真空镀膜机传动系统的特点：
1.由于真空室狭小，无法安装张力检测装置，所以收、放卷张力完全要靠收、放卷驱动的电机直接控制。因此收、放卷驱动器都工作于转矩工作模式。对于较轻较薄的材料，收卷还有张力锥度功能。
2.由于工艺方面的原因，起主传动作用的冷却辊上没有压辊，因此冷却辊只能靠摩擦力带动薄膜；收、放卷张力相差较大时，薄膜很容易在冷却辊上打滑。如何防止打滑是驱动控制方面的难题。
