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随着电子产品功能及使用环境的不断升级，密封灌封胶产品的种类也越来越多，在使用选购密封灌封胶的过程中，使用前应根据密封部位的使用条件，密封副偶件的材料，密封副结合面的状态，被密封介质的种类和性能及固化条件等综合考虑进行选择。其中就包括受力状态、工作温度、环境以及密封副偶件是否需要可拆性等条件。
四、使用说明
产品工艺性能较好，可直接施工，施工方法可采用毛笔涂抹、滚涂、点胶机自动挤出或丝网印刷。
对所有接触表面用溶剂清洁后再涂抹硅脂，填满间隙的前提下越薄越好，多涂并无益处，反而会影响热传导
效率。
用干净的工具如剃刀片，信用卡边或干净的小刀挑起少许导热硅脂转移到施工部位，用刮板刮平，再用无绒布将施工部
位周边多余的导热硅脂擦干净。
五、包装
塑料筒装，净容量为300ML、500ML、1L、5L；
金属软管包装, 净容量为50ML、100ML 300ML 2600ML 10KG。
光刻工艺约占整个芯片制造成本的35%，耗时占整个芯片工艺的40%~60%，是半导体制造中核心的工艺。
以半导体光刻胶为例，在光刻工艺中，光刻胶被均匀涂布在衬底上，经过曝光(改变光刻胶溶解度)、显影(利用显影液溶解改性后光刻胶的可溶部分)与刻蚀等工艺，将掩膜版上的图形转移到衬底上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。
光刻技术随着IC集成度的提升而不断发展。为了满足集成电路对密度和集成度水平的更高要求，半导体用光刻胶通过不断缩短曝光波长以提高极限分辨率，世界芯片工艺水平目前已跨入微纳米级别，光刻胶的波长由紫外宽谱逐步至g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm）、 ArF（193nm）、F2（157nm），以及的EUV(<13.5nm)线水平。
