3. 开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。
4. 开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。
5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽，开前机和
高阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。 1. 总电源。
2. 同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源：按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关，延时、电源及保护灯亮，三分钟后延时及保护灯灭，若后门未关好或水流继电器有故障，保护灯会常亮。
3. 开高压，高压会达到10KV以上，调节束流可到200mA左右，帘栅为20V/100mA，灯丝电流1.2A，偏转电流在1~1.7之间摆动。 1. 关高真空表头、关分子泵。
2. 待分子泵显示到50时，依次关高阀、前级、机械泵，这期间约需40分钟。
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离子镀膜，一个精密的工艺过程，其核心是离子溅射镀膜。对于导电靶，偏压电源扮演了关键角色，采用直流电场的精密调控，确保阴极表面的电子被加速，进而轰击气体分子，引发电离现象。这个过程中，电子被电场驱动，形成雪崩效应，直至气体被击穿，形成稳定的电离电流，进而驱动离子加速，撞击靶材，将原子释放并沉积在样品表面，形成所需涂层。
偏压电源，就像荧光灯中的核心组件，它通过高频转换电路，以单极性脉冲方式输出。电源电压的精细调整通过改变高频转换电路的输入电压实现，稳压性能高达1%。这种设计允许在工艺所需电压的同时，通过调整脉冲宽度来控制工件的加热效果，适用于各种涂层需求，从工具保护到装饰美化。
离子渗氮：可以在辉光放电条件下，将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性，相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控，可用于各种钢铁及钛合金结构件，各种模具和各种不锈钢制品。
等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮，氮碳共渗)
等离子体化学气相沉积（PCVD）是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。在一定压力、温度的真空炉内，加入适当比例的不同工作气体，在脉冲电压的作用下，通过辉光放电产生均匀等离子体。在不同工艺条件下，可在被处理工件表面形成各种硬质膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多层复合膜等，显微硬度高达HV2000--2500。
发黑通常是由于过早氧化造成的。泛黄一般是因为铝源中含有杂质过多，一般纯度应在4 N或5N以上。无论是涂布机的真空度不达标，都要达到10—7倍Pa。（不准确）。涂敷物品的清洗不，表面残留有清洁剂和水。被涂物品表面温度不合理，温度过高或过低。涂层项目的潜在设置不合理。真空扩散泵油应更换。调节蒸发源的温度，不能太低或太高。如果电子束蒸发，电子束的轰击位置也应该调整。
真空镀膜加工中冷却设备需要提供智能、稳定的冷冻水，来确保真空镀膜工艺中电镀液的温度恒定，所以会选择使用水冷式冷水机来作为真空镀膜加工冷却设备。
一 真空镀膜加工中冷却设备冷水机的作用
真空镀膜加工过程中，真空镀膜机作为主要设备，工作过程中有高频电流过程，电导会在反复过程中产生大量热能并且集聚在一起，需要冷却设备及时地进行冷却，避免设备部件损坏，影响使用寿命；另外，真空镀膜电镀液需要根据电镀产品不同进行温度调节，并保持相对恒温，反复镀膜会造成镀液温度升高，同样需要冷却设备来准确地控制和稳定电镀液的温度。在工业生产控温中，根据真空镀膜加工的实际需求，选用相应规格的冷水机设备来进行、稳定的温度控制调节是经济有效的解决方案。
利摘要显示，本申请关于一种真空镀膜自动加料装置，涉及真空镀膜领域。该真空镀膜自动加料装置包括支架，支架上安装有滑动机构，滑动机构上安装有驱动机构以及加料机构，驱动机构的动力输出端与加料机构传动连接；加料机构的上方还安装有储料罐，储料罐将粉料输送至加料机构内，加料机构与外部管式炉的进料口接驳；其中，储料罐上还安装有搅拌机构，搅拌机构将储料罐内的粉料均匀的输送至加料机构内。实现了在CVD过程中，粉末状态的蒸发材料（如派瑞林）少量、连续进入管式炉以进行后续的加热、升华、裂解工艺，既满足了蒸发材料的用量，又达到了实时动态调整进料量的目的，提升了镀膜效果，并实现了一种以上的蒸发材料复合镀膜的工艺需求。
