化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
定期保养，有人会问常规保养和定期保养的区别?事实上，每个设备都有使用寿命。例如，用于扩散泵的硅油具有大约两年的使用寿命。我们早点换掉它。这是浪费吗?不，在生产中，设备故障是不可能发生的事情。做好日常维护和定期保养，不仅可以延长设备的使用寿命，还可以减少运行故障，提高生产效率。
真空镀膜机的污染物可以定义为“任何一种无用的物质或能量”。多弧离子镀膜机根据污染物的物理状态可分为固态、气态和液态，污染物以薄膜或颗粒的形式存在。就其化学特性而言，它可以是离子态或共价态，无机态或有机态。
前期清洗真空镀膜机可以减少很多麻烦，避免溅射镀膜机的很多小问题，对真空镀膜机的工作效率和镀膜质量有非常积极的作用。它可以大大提高真空系统中所有壁面和其他部件表面在各种工况下的工作稳定性。这些工作条件包括:高温、低温以及电子、离子、光子或重粒子的发射和轰击。
与传统的镀膜方法相比，真空镀膜属于干法镀膜，其主要方法有以下几种:
1.真空蒸发
其原理是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发材料使其蒸发或升华，蒸发的离子流直接射向基片，在基片上沉积固体薄膜。
2.溅射涂层
溅射镀膜是一种真空条件，在阴极施加2000V高压激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极喷出原子。溅射的原子通过惰性气氛沉积在衬底上形成薄膜。17_副本.jpg
3.离子电镀法
即干式螺杆真空泵制造商已经推出的真空离子涂层。它是在上述两种真空镀膜技术的基础上发展起来的，所以具有两者的工艺特点。在真空条件下，工作气体或蒸发物质(膜材料)通过气体放电被部分电离，蒸发物质或其反应物在离子轰击下沉积在基片表面。在成膜的过程中，衬底总是受到高能粒子的轰击，这使得它非常干净。
4.真空卷绕涂层
真空镀膜是通过物理气相沉积在柔性基板上进行连续镀膜的技术，以实现柔性基板的某些功能性和装饰性。
检查泄漏情况是真空镀钛机真空度的一种检查方法，简称检漏。真空的凹凸度直接影响镀膜的作用，因此检漏是的。通常情况下，真空室的漏气是由腔壁上的一些孔或元件前的薄接头引起的。抽气系统抽气时，真空室内压力降低。内外压差使气体从外部高压流向低压真空室，造成真空度降低。
