蚀刻（etching）又称为光化学蚀刻，是把材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术，可分为湿蚀刻（wet etching）和干蚀刻（dry etching）两种类型。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻（photochemical etching），指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
将印版和一张纸(通常会被弄湿使其变软)一起放入高压印刷机。纸张从蚀刻的线条上吸取墨水，形成印刷品。该过程可以重复多次；典型地，在印版显示出太多磨损迹象之前，可以印刷几百个印痕。板上的工作也可以通过重复整个过程来添加；这就产生了一种蚀刻，这种蚀刻以多种状态存在。蚀刻经常与其他凹版技术如雕刻或水彩结合使用。
蚀刻的必要性主要在于它能够通过化学或电化学作用，将金属或其他材料的表面转化为所需要的形状和图案。这种技术不仅能够大大简化产品的制造过程，还可以提高产品的质量和一致性。通过选择合适的蚀刻剂和工艺参数，还能实现对材料表面的保护和加工，使其具有更强的耐腐蚀性、耐磨损性等特性。
