化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
在镀膜领域，镀膜后薄膜样品的厚度是影响薄膜功用的一个重要因素。因此，当点评某薄膜样品的功用时，需求检测该薄膜样品不同厚度下的功用。对于真空镀膜的情形，这往往需求进行多次试样的制备。而这样多次制备样品存在两个问题：，不同次生长的样品，仪器的状况不同，以至于影响薄膜样品功用的因素可能不仅仅是厚度;其次，真空镀膜试验装取样品需求重新进行真空的获得，十分耗时。增加了出产和检测的本钱。
多功用磁控溅射镀膜系统，由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完结薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体气氛下进行样品的寄存、制备以及蒸镀后样品的检测。蒸腾镀膜与手套箱组合，实现蒸镀、封装、测验等工艺全封闭制造，使整个薄膜生长和器材制备过程高度集成在一个完整的可控环境气氛的系统中，消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响，保障了高功用、大面积有机光电器材和电路的制备。
PETP聚对苯二甲酸乙二醇醋，简称聚酯，是继ABS后又一种满意三种条件的塑料，所镀的膜层具有很好的拉伸强度，耐性大。PS聚苯乙烯能够接受100℃以下的温度，真空镀膜的习惯性也好，无色无味，耐酸碱性，是一种十分好的绝缘资料，不过由于容易脆裂，所以用处不是很广泛。PC聚碳酸酯也能够进行真空镀膜，机械功能和抗冲击性也好，但价格相对来说比较高，并且在成型时如果控制欠好，容易发生开裂。PA聚酰胺真空镀膜后能够防油防潮，遮光和隔热功能也十分好，能够作为出产包装产品的资料。
真空镀膜机的污染物可以定义为“任何一种无用的物质或能量”。多弧离子镀膜机根据污染物的物理状态可分为固态、气态和液态，污染物以薄膜或颗粒的形式存在。就其化学特性而言，它可以是离子态或共价态，无机态或有机态。
与传统的镀膜方法相比，真空镀膜属于干法镀膜，其主要方法有以下几种:
1.真空蒸发
其原理是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发材料使其蒸发或升华，蒸发的离子流直接射向基片，在基片上沉积固体薄膜。
2.溅射涂层
溅射镀膜是一种真空条件，在阴极施加2000V高压激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极喷出原子。溅射的原子通过惰性气氛沉积在衬底上形成薄膜。17_副本.jpg
3.离子电镀法
即干式螺杆真空泵制造商已经推出的真空离子涂层。它是在上述两种真空镀膜技术的基础上发展起来的，所以具有两者的工艺特点。在真空条件下，工作气体或蒸发物质(膜材料)通过气体放电被部分电离，蒸发物质或其反应物在离子轰击下沉积在基片表面。在成膜的过程中，衬底总是受到高能粒子的轰击，这使得它非常干净。
4.真空卷绕涂层
真空镀膜是通过物理气相沉积在柔性基板上进行连续镀膜的技术，以实现柔性基板的某些功能性和装饰性。
