蝶形腔CVD测温仪，CVD红外测温仪，西安固泰传感器红外测温仪可以在以下设备中配套测温使用，比如碳化硅生长炉测温、单晶炉测温、氧化扩散炉测温、真空炉测温；MOCVD金属有机化学气相沉积（Metal-Organic Chemical Vapour Deposition）是在基板上生长半导体薄膜。
PECVD等离子增强化学气相沉积（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)是指等离子体增强化学的气相沉积。
CVD化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition）是指高温下的气相反应。等离子体增强化学气相沉积（PECVD）\高密度等离子体化学气相淀积（HDP CVD） \微波等离子化学气相沉积（MPCVD） \微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积（ECR-MPCVD）\真空化学气相沉积（UHV/CVD） \热化学气相沉积(TCVD) \高温化学气相沉积（HTCVD） \金属有机化合物化学气相沉积（MOCVD）\激光诱导化学气相沉积（LCVD）等。
PVD物理气相沉积（Physical Vapor Deposition)是指在真空条件下采用物理方法将材料源（固体或液体）表面气化成气态原子或分子，或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的方法，物理气相沉积是主要的表面处理之一。物理气相沉积可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。
ALD原子层沉积（Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。以上工况的测温具体选型欢迎联系我们。
