化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。
关于真空镀膜机所用的塑料材料，需要与膜层结合性高，放气量小，受热稳定，一起满意这三个条件的塑料资料是十分少的，但塑料资料在工业出产中的应用却十分广泛，所以塑料真空镀膜机的应用也随之发展起来，为了使更多的塑料投入到真空镀膜中，常常经过各种方法改善。
