真空气相沉积炉

免费发布供求信息
广告
  • 信息
    报价
  • 顶立科技厂家直销卧式化学气相沉积炉(沉积炭)化学气相沉积炉气相沉积炉
    化学气相沉积炉(沉积炭)可用于以碳氢气体(如C3H8等)为碳源的材料表面或基体等温CVD/CVI处理。 技术特征 可根据客户需求设计尺寸,能满足超大型工件化学气相沉积处理需求; 采用多
    05月27日
  • 顶立科技厂家直销立式化学气相沉积炉(碳化硅)气相沉积炉沉积炉
    该立式化学气相沉积炉可用于以硅烷为气源的材料表面抗氧化涂层、基体改性等。 技术特征 采用先进的控制技术,能精密控制MTS的流量和压力,炉膛内沉积气流稳定,压力波动范围小;
    01月15日
  • 顶立科技厂家直销立式化学气相沉积炉(沉积炭)CVD/CVI气相沉积炉
    立式化学气相沉积炉(沉积炭)可用于以碳氢气体(如C3H8等)为碳源的材料表面或基体等温CVD/CVI处理。 技术特征 根据炉膛尺寸与结构设置温区,温度均匀性好; 采用特殊结构沉积室,密
    05月27日
  • 气相沉积炉CVD炉
    180000.00元
    一、产品简介: 该设备ZYG1700-100是一款非标定制的小型双温区管式炉;可实现一边进气做气象沉积同时还能抽真空,保持炉膛内的真空度为负压的状态;真空系统由干泵+分子泵组成真空度可达6.67..
    12月11日
  • 气相沉积精密小型真空溅射仪真空镀膜
    郑州科探仪器设备是定制物理 气相沉积(PVD)系统的设计者和制造商,客户服务和售后服务。拥有7年以上真空和薄膜沉积技术经验。其研发团队在学界科学家和工程师的支持下,高度积极地开发新设..
    06月14日
  • 一种石墨烯薄膜连续式气相沉积炉
    供应石墨烯气相沉积法鸿峰牌CVD系统 该设备为咸阳鸿峰窑炉设备有限公司自主设计的化学气相沉积炉,主要针对石墨烯薄膜的连续式沉积,属于宏量制备系统。 设备特点: 1.该设备可以实
    02月28日
  • CVD化学气相沉积设备
    设备介绍: 本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低
    09月11日
  • 半导体真空气相沉积磁控薄膜沉积真空镀膜溅射仪
    郑州科探仪器设备是定制物理 气相沉积(PVD)系统的设计者和制造商,客户服务和售后服务。拥有7年以上真空和薄膜沉积镀膜技术经验。气相沉积溅射其研发团队在学界科学家和工程师的支持下,高..
    06月14日
  • 供应CVD实验炉化学气相沉积实验炉
    设备名称:鸿峰牌CVD设备化学气相沉积炉 设备用途: 真空CVD设备&化学法气相沉积实验炉主要用于实验室新型炭材料和膜材料的化学沉积实验,属于管式高温回转炉。 该设备烧结温
    03月12日
  • 真空感应化学气象沉积炉哪家好,真空熔炼炉代理
    真空感应化学气象沉积炉哪家好,真空熔炼炉代理产品详情 真空感应化学气相沉积炉是在真空或保护气氛下,利用中频感应原理将置于感应线圈内的石墨坩埚加热,石墨坩埚中放入被制备的
    03月31日
  • PEVCD等离子增强化学气相沉积系统石墨烯生长常用设备
    (一)产品用途:对于石墨烯生长工艺非常合适。制作硅片可在片状或类似形状样品表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、类金刚石等多种薄膜,对于离子注入后的贵金属,各种黄
    05月24日
  • 物理气相沉积(PVD)设备行业市场深度研究及投资前景分析报告
    中国物理气相沉积(PVD)设备行业市场深度研究及投资前景分析报告2024-2030年mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm【报告编号】 48796【出版机构】:中信博研研究网【交付方式】:EMIL电..
    02月14日
  • 中国物理气相沉积(PVD)水龙头表面处理行业现
    2024-2030年与中国物理气相沉积(PVD)水龙头表面处理行业现状趋势与前景规划建议报告mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm【报告编号】 48436【出版机构】:中信博研研究网【交付方式】..
    02月14日
  • 中国化学气相沉积(CVD)设备发展现状与前景规划分析
    中国化学气相沉积(CVD)设备发展现状与前景规划分析报告2024-2029年 【报告编号】:48055 【出版时间】:2023年11月 【出版机构】:中信博研研究网 【报告价格】:印刷版6500元 电子版6800元 印..
    02月14日
  • 等离子体增强化学气相沉积系统(PECVD)
    等离子体增强化学气相沉积系统(PECVD),价格咨询15301310116 北京麦迪森科技有限公司 符合CE认证标准的三温区CVD系统,生长样品腔的管径60-120mm,它是由高温管式炉、多路高精度流量控制与
    09月05日
  • 高校实验室等离子体化学气相沉积等离子模块
    等离子体化学气相沉积( plasma chemical vapor deposition)简称PCVD,是一种用等离子体激活反应气体,促进在基体表面或近表面空间进行化学反应,生成固态膜的技术。等离子体化学气相沉积技术..
    10月28日
  • CVD化学气相沉积实验1700度CVD实验炉
    产品用途:主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分
    05月27日
  • 高校实验室PECVD化学气相沉积设备等离子模块
    等离子体是由阳离子、中性粒子、自由电子等多种不同性质的粒子所组成的电中性物质,其中阴离子(自由电子)和阳离子分别的电荷量相等,这就是物理学上所谓“等离子”。等离子体内移动中的粒子会..
    01月18日
  • 派瑞林真空气相沉积工艺与其他涂层方式的区别
    很多客户都在寻找优于传统(液体)涂层方式的镀膜产品,这时您可能会搜索到一个叫派瑞林涂层的工艺,那么我们为什么不再选择液体涂层方式而改用气相沉积的派瑞林镀膜方式了呢?派瑞林涂层工艺与..
    02月05日
  • 派珂纳米parylene真空气相沉积设备VPC-508
    产品名称 Parylene真空气相沉积镀膜机 产品型号 VPC-508 工作环境 电源:380V 五线 6平方以上电缆,大功率15KW 环境温度:0-40℃ 环境湿度:<90% 控制系统 PLC控制系统 尺寸 外观尺寸..
    07月23日
产品大全 » 印刷服务 » 真空气相沉积炉

黄页88网提供2025最新真空气相沉积炉价格行情,提供优质及时的真空气相沉积炉图片、多少钱等信息。批发市场价格表的产品报价来源于共4家真空气相沉积炉批发厂家/公司提供的296101条信息汇总。