陶瓷靶材

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  • 氟化镱陶瓷靶材13760-80-0表面光滑平整德盛供
    CAS:13760-80-0各种高纯靶材材料, 通过精密的机加工, 具有高纯度、高密度、 表面光滑平整氟化镱熔点中文名称:无水氟化镱(III)英文名称:ytterbium trifluoride氟化镱靶材[ 密度 ]:4.01 g/m..
    09月18日
  • WSi2陶瓷靶材科研实验材料二硅化钨抗氧化覆盖层材料
    二硅化钨又名硅化钨,它是一种无机硅化物。二硅化钨是一种黑灰色(蓝黑色)四方晶体。熔点2165℃,密度是9.3g/cm3,熔点2160℃,具有良好的抗氧化性,溶于王水,但是不溶于水,它可以和许多的物..
    12月17日
  • 二硅化钨北京瑞弛生产995陶瓷靶材科研实验材料
    二硅化钨又名硅化钨,它是一种无机硅化物。二硅化钨是一种黑灰色(蓝黑色)四方晶体。熔点2165℃,密度是9.3g/cm3,熔点2160℃,具有良好的抗氧化性,溶于王水,但是不溶于水,它可以和许多的物..
    12月05日
  • 供应磁控溅射靶材-陶瓷靶材-金属靶材-合金靶材
       北京中金研新材料科技有限公司专业研发生产销售高纯靶材 ,高纯度,品质保证,完善的售后服务规格可按客户要求定做,尽最大努力满足不同客户的需求。 北京中金研新材料科技
    09月20日
  • 氧化铝靶材Al2O3Target陶瓷溅射靶材氧化铝颗粒
    氧化铝靶材Al2O3 Target 陶瓷溅射靶材 氧化铝颗粒 氧化铝靶材 三氧化二铝靶材 纯度:99.99% 分子式:Al2O3 分子量:101.96 CAS号:1344-28-1 密度:4 熔点:2045℃ 折射率:1.6-1.65..
    12月13日
  • 氧化镁靶材MgO靶材氟化镁靶材陶瓷溅射靶材
    氧化镁靶材 MgO靶材 氟化镁靶材 陶瓷溅射靶材 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.9
    07月31日
  • 高纯陶瓷溅射靶材钨氧化铝纯度99金属靶材镀膜材料
    碳化钨靶材是一种由高纯钨和碳为原料构成的靶材,颜色为黑色六方,有金属光泽,硬度与金刚石相近,为电、热的良好导体,碳化钨不溶于水、盐酸和硫酸,易溶于硝酸-氢氟酸的混合酸中,纯的碳化..
    12月17日
  • 北京瑞弛高纯陶瓷溅射靶材钨氧化铝纯度99
    碳化钨靶材是一种由高纯钨和碳为原料构成的靶材,颜色为黑色六方,有金属光泽,硬度与金刚石相近,为电、热的良好导体,碳化钨不溶于水、盐酸和硫酸,易溶于硝酸-氢氟酸的混合酸中,纯的碳化..
    12月05日
  • 供应优质陶瓷靶材高纯氧化镁靶
    高纯氧化物/蒸发镀膜材料 (颗粒、粉末 纯度3-5N)   氧化铝(Al2O3),氧化钕(Nd2O3),氧化锑(Sb2O3),五氧化二铌(Nb2O5),氧化锡掺锑(ATO),氧化镨(Pr6O11),钛酸钡(BaTiO3),..
    02月12日
  • 供应利承创欣高纯氮化硅靶高纯陶瓷靶
    高纯氟化物/蒸发镀膜材料 (颗粒、粉末 纯度3-6N)   氟化铝(AlF3),氟化镨(PrF3),氟化钡(BaF3),氟化镁(MgF2),氟化铬(CdF2),氟化钕(NdF3),氟化钙(CaF2),氟化铈(CeF3..
    02月12日
  • 供应高纯碳化硅靶SiC靶材陶瓷靶材
    高纯金属溅射靶材 铝靶Al、铬靶Cr、铜靶Cu、铁靶Fe、锌靶Zn、锡靶Sn、镁靶Mg、钴靶Co、镍靶Ni、钛靶Ti、金靶Au、银靶Ag、铂靶Pt、铼靶Re、钌靶Ru、钯靶Pd、铑靶Rh、铱靶Ir、铟靶In、钒靶V、..
    02月12日
  • 高纯高纯三氧化二铁靶Fe203靶陶瓷靶材陶瓷镀膜材料
    北京利承创欣金属材料科技有限公司(简称:利承创欣)创建于2015年,位于北京中关村,厂房占地2500平米,是由国家科技部牵头、多家业内企业控股,集镀膜材料、磁控溅射靶材研发、生产、
    02月12日
  • 供应利承创欣高纯二氧化硅靶Si02靶材陶瓷靶材
    高纯氧化物/蒸发镀膜材料 (颗粒、粉末 纯度3-5N)   氧化铝(Al2O3),氧化钕(Nd2O3),氧化锑(Sb2O3),五氧化二铌(Nb2O5),氧化锡掺锑(ATO),氧化镨(Pr6O11),钛酸钡(BaTiO3),..
    02月12日
  • 供应利承创欣高纯IT0靶In203+Sn02b靶材陶瓷靶材
    利承创欣将秉承创新发展至先、客户服务至诚的使命,知崇礼卑、止于至善致力于生产符合国际标准的镀膜材料。 我公司主要产品如下: 高纯溅射靶材(规格按要求定做 纯度3-6N) 高纯金
    02月12日
  • 研创新材ITO靶材ITO颗粒ITO块
    镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,用于高能激光
    01月17日
  • 北京瑞弛高纯度二硅化钨995WSi2科研实验靶材
    产品细节:二硅化钨又名硅化钨,它的颜色为黑灰色,熔点2165℃,密度是9.3g/cm3,熔点2160℃,具有良好的抗氧化性,溶于王水,但是不溶于水,它可以和许多的物质发生剧烈反应,例如强酸、氟、氧..
    06月30日
  • 靶材溅射靶材陶瓷靶材磁控溅射靶材贵金属靶材高熵合金靶材
    北京蒙泰京典金属材料研究所专业生产高纯试剂99.9-99.99999: 1.高纯纯氧化物(纯度:99.9-99.9999%):一氧化硅,SiO,二氧化硅,SiO2,二氧化铪,HfO2,二氧化锆,ZrO2,一氧化钛,TiO,二氧化..
    05月19日
  • 中国陶瓷溅射靶材市场发展动态及前景预测报告2024-2030年
    中国陶瓷溅射靶材市场发展动态及前景预测报告2024-2030年mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm【报告编号】 43776【出版机构】:中研嘉业研究网【交付方式】:EMIL电子版或特快专递【报告..
    02月09日
  • 氧化锌铝靶材AZO陶瓷溅射靶材透明导电薄膜靶材
    氧化锌铝靶材AZO 陶瓷溅射靶材 透明导电薄膜靶材 AZO靶材 纯度:99.99% 成分:ZnO:Al2O3=98:2wt%或97:3wt% 致密度:大于95% 尺寸:常见2英寸,3英寸等,其他尺寸可定做 颗粒:1-3mm..
    12月13日
  • 氧化铁靶材三氧化二铁靶材陶瓷溅射靶材Fe2O3
    氧化铁靶材三氧化二铁靶材 陶瓷溅射靶材 铁靶材 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%
    07月31日
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