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7000.00元中国刻蚀用硅电极市场运营模式及前景战略研究报告2025-2031年★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★【全新修订】：2025年1月【出版机构】：中智信投研究网【内容部分有删减·详细可参中智信投研究网出版完整..02月15日 -
666667.00元钙钛矿激光划线刻蚀机一、适用范围适用于高校、科研单位对钙钛矿电池制作工艺与装备研究。用于实验室钙钛矿太阳能电池生产过程中的膜层刻划或清除。二、技术特点◆可根据不同使用场景与工艺要..02月15日
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售卖地区全国类型半导体耗材是否厂家是售后服务提供技术支持用途范围各种金属的腐蚀溶液产品名称蚀刻液执行标准国标存储方式低温货源充足是否进口否发货地批号新封装瓶装有效成分含量99服务保..02月16日
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NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀产品概述：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而ibe离子束刻蚀通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下，..02月14日
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NRE-4000（ICPM）ICP刻蚀机概述：是带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统，系统可以达到高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀效果。可实现范围广泛的刻蚀工艺，包括刻蚀III-V化合物（如GaAs，I..02月14日
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NDR-4000（A）全自动DRIE深反应离子刻蚀概述：全自动上下载片，带低温晶圆片冷却和偏压样品台的深硅刻蚀系统，带8" ICP源。系统可以配套500L/S抽速的涡轮分子泵，可以使得工艺压力达到几..02月14日
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NRE-4000（A）全自动反应离子刻蚀概述：NRE-4000是一款立式RIE反应离子刻蚀系统，此款刻蚀机配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13\"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶..02月13日
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20000.00元刻蚀机是用于芯片制造中的关键设备，主要负责在芯片制造过程中执行“刻蚀”这一步骤。刻蚀是芯片制造中与光刻紧密相连的一个步骤，通过化学或物理方法对衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性腐蚀..08月19日
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230000.00元刻蚀机，也称为半导体刻蚀设备，是半导体制造过程中的关键设备之一，其重要性凸显，地位举足轻重。刻蚀是半导体图案化过程的核心工艺，主要用于去除特定区域的材料以形成微小的结构图案..08月14日
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23000.00元刻蚀机是一种通过化学或物理手段将某些材料表面局部去除的设备，从而获得所需的细微结构或器件。刻蚀机在微电子、纳米技术、生物芯片等领域得到广泛应用。 刻蚀机主要通过在目标材料表面进行..07月17日
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200000.00元反应离子刻蚀（RIE）是一种制造微纳米结构的等离子刻蚀技术。在刻蚀过程中，低压等离子体产生了高能离子和自由基，与样品表面反应，产生挥发性的化合物。这些挥发性化合物从样品表面抽走后，..07月15日
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31000.00元刻蚀机，也称为蚀刻机，在电子行业、半导体制造工艺中得到广泛应用，主要用于将图案、印刷电路等有机材料蚀刻成所需形状，从而制作出微型电路板、集成电路和 MEMS（微机电系统）等。 刻蚀..07月12日
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31000.00元刻蚀机，也称为蚀刻机，在电子行业、半导体制造工艺中得到广泛应用，主要用于将图案、印刷电路等有机材料蚀刻成所需形状，从而制作出微型电路板、集成电路和 MEMS（微机电系统）等。 刻蚀机..07月08日
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200000.00元蚀刻机主要是通过将待刻蚀的材料用化学液淋在一起，通过化学反应将材料表面形成凹凸不平的效果。根据不同的应用场景，可以采取不同的化学液蚀刻材料表面。 1. 硅片加工 硅片是集成电路的重..07月04日
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310000.00元蚀刻机，顾名思义，就是通过化学反应来将材料表面进行刻蚀的机器。一些特定的材料如玻璃、石英、硅等，都可以通过蚀刻机对其进行微米级别的凹凸加工。 1. 硅片加工 硅片是集成电路的重要组..07月04日
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20.00元铈铵刻蚀铬CeH₈N₂OS₃ 稀土铈盐10378-47-9 AMMONIUMCERICSULPHATE2-HYDRATE 分子式：(NH4)4Ce(SO4)4 稀土结构式：CeH₈N₂OS₃ 分子量：596.5202 酸铈CAS.7637-03-8 , 10378-47-9 外观性状..06月26日
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31000.00元蚀刻机，顾名思义，就是通过化学反应来将材料表面进行刻蚀的机器。一些特定的材料如玻璃、石英、硅等，都可以通过蚀刻机对其进行微米级别的凹凸加工。 蚀刻机主要是通过将待刻蚀的材料用化..05月27日
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310000.00元刻蚀机是芯片制造过程中的关键设备，主要用于在芯片上进行微观雕刻。以下是刻蚀机的详细介绍： 刻蚀机的原理。刻蚀机通过使用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料，以形..05月07日
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