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产品细节：铬铝钼合金具有很高的渗氮性能和力学性能，良好的耐热性和耐蚀性，经渗氮处理后，能得到高的表面硬度、高的疲劳强度及良好的抗过热性，无回火脆性，切削加工性尚可，高温工作温度可..12月26日 -
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2000.00元产品类别合金靶材产品简称CrCu产品全称Chrome copper产品纯度99.5%，99.9%，99.95%，99.99%产品形状平面靶，柱状靶，电弧靶，异型靶生产工艺Vacuum Melting，PM尺寸L≤2000mm,W≤350mm产品细节..11月23日
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2000.00元产品类别合金靶材产品简称CrCu产品全称Chrome copper产品纯度99.5%，99.9%，99.95%，99.99%产品形状平面靶，柱状靶，电弧靶，异型靶生产工艺Vacuum Melting，PM尺寸L≤2000mm,W≤350mm产品细节..07月11日
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7560.00元我们的现货铪颗粒参数：电阻率32.2µOhmcm温度系数0.00440K⁻¹晶体结构密排六方抗拉模量141.00GPa密度13.100g/cm³ 熔点2227.00°C沸点4602°C热膨胀系数6.000x10⁻⁶ K⁻¹导热..07月02日
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7560.00元产品细节：铜镍锰靶材是由高纯铜、镍、锰熔炼铸造得到的靶材，该靶材的优势是高纯度，导电性好，用途是磁控溅射镀膜，平面显示工业等。铜镍锰合金又叫锰白铜，是指以铜镍合金为基础加入锰的白..07月01日
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1.00元旋转靶材是磁控的靶材。靶材做成圆筒型的，里面装有静止不动的磁体，以慢速转动。 溅射靶材用于磁控溅射镀膜，溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜(PVD)方式。 在被溅射的靶ji(阴ji)与阳j12月10日
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1.00元钼靶材广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。 钼靶 密度10.2克/立方厘米。熔点2610℃。沸点5560℃。 钼靶材纯度：99.9% ，99.99% ..10月28日
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溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子08月27日
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旋转靶材是磁控的靶材。靶材做成圆筒型的，里面装有静止不动的磁体，以慢速转动。 溅射靶材用于磁控溅射镀膜，溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜(PVD)方式。 在被溅射的靶极(阴极)与阳08月17日
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旋转靶材是磁控的靶材。靶材做成圆筒型的，里面装有静止不动的磁体，以慢速转动。 溅射靶材用于磁控溅射镀膜，溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜(PVD)方式。 在被溅射的靶极(阴极)与阳06月01日
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此产品广泛应用于真空镀膜行业，多弧离子镀膜设备，应用于各种膜层的镀制，银色，金色，玫瑰金，黑钛，玫瑰红，七彩色等 规格 Φ100*40，Φ98*40，Φ95*45，Φ90*40，Φ85*35，Φ65*40较常见，03月29日
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镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光01月17日
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钼靶 密度10.2克/立方厘米。熔点2610℃。沸点5560℃。 钼靶材纯度：99.9% ，99.99% 规格：圆形靶，板靶，旋转靶 钼靶材广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所..01月17日
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镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光12月20日
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