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1200.00元氧化铝靶材Al2O3 Target 陶瓷溅射靶材 氧化铝颗粒 氧化铝靶材 三氧化二铝靶材 纯度：99.99% 分子式：Al2O3 分子量：101.96 CAS号：1344-28-1 密度：4 熔点：2045℃ 折射率:1.6-1.65..12月13日 -
1500.00元氧化镁靶材 MgO靶材 氟化镁靶材 陶瓷溅射靶材 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.907月31日
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800.00元高纯镁靶材 金属镁颗粒 Mg Target 金属溅射靶材 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.907月31日
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7000.00元中国溅射靶材用高纯铜行业投资分析及发展潜力研究报告2024-2029年mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm【报告编号】 39376【出版机构】:中研嘉业研究网【交付方式】:EMIL电子版或特快专..11月05日
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7000.00元中国二硼化钛溅射靶材行业深度调研及前景趋势预测报告2024-2030年mm+mm中mmm+mmm智mmm+信mmm+mm投mm+mm研mm+mm究mm+网mmm【全新修订】：2024年8月【出版机构】：中智信投研究网【内容部分有删..11月04日
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中国溅射靶材行业市场需求预测及前景展望研究报告2021-2026年 .................................................. *<报告编号> 300952 *<出版日期> 2020年11月 *<出版机构&..11月05日
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165.00元其基本成分 Ni 95% Al 5%。状态为经过预合金化的实心丝。 955制备的结合底层存在于基体与工作涂层之间，良好的冶金结合既提高了与基体的结 合力又提供了一个粗糙的表面给工作层，对于07月02日
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高纯镍合金镍钒溅射镀膜靶材93:7 wt%,蒸发镀膜颗粒材料，镍钒合金旋转靶材 英文名称：Nickel Vanadium (Ni-V) Sputtering Target，元素比例：Ni93% V7% 专注于生产具有最高密度和最小平均晶..06月12日
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300.00元苏州南京广东深圳北京高纯镍溅射镀膜靶材蒸发镀膜颗粒材料镍旋转靶材 英文名称：Nickel Sputtering Target 公司生产的常见靶材如下： 金属溅射镀膜靶材: 铝靶材Al，锑靶材Sb，铋靶材Bi，..06月12日
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480.00元锆(Zirconium)是一种金属元素，元素符号Zr，密度6.49g/cm³，熔点1852°C，沸点4377°C。锆是一种银白色过渡金属，因其制取工艺复杂，不易被提取，所以也常被称为“稀有金属”。事实上，锆在地壳中..01月02日
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二氧化硅（SiO2）靶材 材料 分子式 纯度 （%） 密度 （g/cm3） 形状与尺寸 二氧化硅 SiO2 99.99 2.21 圆片Φ18~30x7~18mm 圆环Φ200~350x7~18mm 石..11月10日
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38800.00元科研实验室小型高温样品镀膜设备，小型蒸镀仪 郑州科探KT-Z1650CVD，台式设计、软件自动操控、高性价比，非常适合实验室科研使用。 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜..10月12日
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86000.00元重庆半导体溅射靶材喷砂机可以根据要求量身定制，包括各系列喷砂房，直压型喷砂机、重力式喷砂机。改系列设备以稳定、安全、环保、节能为重点，以人为本，充分考虑工人操作、维修等02月09日
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88888.00元半导体溅射靶材背板喷砂机是一种清理工艺，该工艺主要去去除靶材背板上的金属材料、氧化皮，以保证在次投入使用，降低使用成本。该系列设备的做法可根据不同的工件进不非标设计，该02月01日
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