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1200.00元氧化铝靶材Al2O3 Target 陶瓷溅射靶材 氧化铝颗粒 氧化铝靶材 三氧化二铝靶材 纯度：99.99% 分子式：Al2O3 分子量：101.96 CAS号：1344-28-1 密度：4 熔点：2045℃ 折射率:1.6-1.65..12月13日 -
1500.00元氧化镁靶材 MgO靶材 氟化镁靶材 陶瓷溅射靶材 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.907月31日
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39500.00元钴铌锆靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是由高纯钴、铌、锆经过高真空熔炼得到铸坯，再经加工得到的产品，具有特定的尺寸和形状的高纯钴铌锆材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。Co..07月01日
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800.00元高纯镁靶材 金属镁颗粒 Mg Target 金属溅射靶材 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.907月31日
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7560.00元我们的现货铪颗粒参数：电阻率32.2µOhmcm温度系数0.00440K⁻¹晶体结构密排六方抗拉模量141.00GPa密度13.100g/cm³ 熔点2227.00°C沸点4602°C热膨胀系数6.000x10⁻⁶ K⁻¹导热..07月02日
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1.00元产品名称：钼靶材 纯度: 99. 密度：≥10.2g/cm3 尺寸范围：--- (可根据客户需求定制） 外 观：在显微镜下观察，管子内外表面呈现出均匀的金属光泽，无氧化、氢化变色、划伤、变形、毛刺01月28日
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1.00元高纯钼靶是AMOLED面板生产中的关键原材料之一，该公司的新产品是适用于TFT-LCD/AMOLED的超宽高纯高密钼平面溅射靶材，主要应用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填补了国内宽幅钼靶(1800mm)空白，..12月17日
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1.00元溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子12月10日
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1.00元高纯钼靶是AMOLED面板生产中的关键原材料之一，该公司的新产品是适用于TFT-LCD/AMOLED的超宽高纯高密钼平面溅射靶材，主要应用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填补了国内宽幅钼靶(1800mm)空白，..12月10日
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1.00元高纯钼靶是AMOLED面板生产中的关键原材料之一，该公司的新产品是适用于TFT-LCD/AMOLED的超宽高纯高密钼平面溅射靶材，主要应用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填补了国内宽幅钼靶(1800mm)空白，..11月06日
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1.00元溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子10月28日
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1.00元高纯钼靶是AMOLED面板生产中的关键原材料之一，该公司的新产品是适用于TFT-LCD/AMOLED的超宽高纯高密钼平面溅射靶材，主要应用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填补了国内宽幅钼靶(1800mm)空白，..10月28日
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高纯钼靶是AMOLED面板生产中的关键原材料之一，该公司的新产品是适用于TFT-LCD/AMOLED的超宽高纯高密钼平面溅射靶材，主要应用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填补了国内宽幅钼靶(1800mm)空白，..09月28日
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纯度：纯钼≥99.95%，高温钼≥99%（添加稀土元素） 密度：≥10.2g/cm3 熔点：2610℃ 供货状态：成品态 规格：根据客户要求定制 生产工艺流程： 钼坯(原材料)-检验-热轧--碱洗-冷轧-校平-机械05月28日
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中国碲化物陶瓷溅射靶材行业发展分析及投资趋势研究报告2025-2031年【报告编号】58049【出版日期】2025年3月【交付方式】电子版或特快专递【报告价格】【纸质版】:6500 【电子版】:6800 【合..03月11日
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7000.00元中国高纯贵金属溅射靶材行业发展动态及前景方向预测报告2025-2030年mm+mm+mmmm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm【报告编号】 56930【出版机构】:中研嘉业研究网【交付方式】:emil电子版或特快..03月11日
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7000.00元中国溅射靶材用高纯铝市场投资分析及发展战略研究报告2024-2030年mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm【报告编号】 59719【出版机构】:中研嘉业研究网【交付方式】:EMIL电子版或特快专..03月12日
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7000.00元中国硒化陶瓷溅射靶材行业深度调研及投资前景分析报告2024-2030年mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm【报告编号】 59691【出版机构】:中研嘉业研究网【交付方式】:EMIL电子版或特快专..03月12日
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