高纯铬靶材

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  • 研创新材高纯铬靶材铬颗粒铬块铬粉
    临沂研创新材料科技有限公司长期供应高纯铬靶材 铬颗粒 铬块 铬粉 纯度:99.95% 符号:Cr 原子量:51.996 熔点:1907℃ 沸点..
    01月08日
  • 高纯铬靶材高纯铬颗粒铬靶CrTarget
    高纯铬靶材高纯铬颗粒铬靶Cr Target 铝,高纯铝,高纯铝丝,高纯铝粒,高纯铝片,高纯铝靶,铝蒸发料,铝电极 铜,高纯铜,高纯铜丝,高纯铜片,高纯铜粒,铜靶,铜蒸发料,铜电极 铬,
    07月31日
  • 盛科航高纯铬靶材铬颗粒铬块铬粉球形铬
    银白色金属,质极硬,耐腐蚀。密度7.20克/cm³ 。熔点1857±20℃,沸点2672℃ 盛科航新材料科技有限公司长期采用等静压工艺 制备高纯铬靶材 铬颗粒 铬块 雾化球形铬粉等等材 盛科航高纯合
    01月08日
  • 高纯铬靶材
    铬元素符号Cr,银白色金属,在元素周期表中属 ⅥB族, 铬的原子序数24,原子量51.9961,体心立方晶体,常见化合价为+3、+6和+2。氧化数为10。1797年法国化学家沃克兰 (L.N.Vauquelin)在西伯利..
    06月15日
  • 高纯铬块铬锭铬颗粒铬粉末金属铬实验单质铬科研铬靶材
    广泛应用于铝铸件及铜、锌铸件的表面精加工处理,各种金属表面的喷沙打磨,铸造工件的除毛边、毛刺,刃物表面、铸造制品表面的喷沙打磨等。可使您的产品平整、光洁、发亮、达到增白
    09月05日
  • 北京瑞弛生产高纯铬靶纯度9995铬靶溅射靶材金属材料
    我们生产的不同纯度铬靶的杂质元素含量:纯度≥含量(%)≤FeSiAlCNOS99.2300025002000200500200010099.5200020001200200500150010099.7120010001000200300120010099.8100080060020020010001009..
    12月13日
  • 高纯镁靶材金属镁颗粒MgTarget金属溅射靶材
    高纯镁靶材 金属镁颗粒 Mg Target 金属溅射靶材 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.9
    07月31日
  • 高纯铬块金属铬块电解喷镀颗粒99.99%铬粒
    品名 电解铬 牌号 99.99% 产地 河北 铬含量≥ 99.99(%) 品名:高纯铬块 计价单位:80元/kg 纯度:≥99.99% 规格:也可根据客户需求定制 包装:真空包装 运输方式:少..
    11月04日
  • 北京瑞弛生产高纯度铬靶材铬靶9999单质铬靶溅射靶材
    我们生产的不同纯度铬靶的杂质元素含量:纯度≥含量(%)≤FeSiAlCNOS99.2300025002000200500200010099.5200020001200200500150010099.7120010001000200300120010099.8100080060020020010001009..
    12月15日
  • Cr纯度999铬靶铬板溅射靶材金属铬材料单质铬靶材
    我们生产的不同纯度铬靶的杂质元素含量:纯度≥含量(%)≤FeSiAlCNOS99.2300025002000200500200010099.5200020001200200500150010099.7120010001000200300120010099.8100080060020020010001009..
    12月26日
  • 盛科航高纯铪靶材铪颗粒铪丝铪粉
    高纯铪是一种带光泽的银灰色金属,密度为13.31g/cm³,熔点为2233 ℃,沸点为4603 °C 盛科航新材料高纯铪具有耐高温、抗腐蚀、抗氧化、易加工、快速吸热和放热等性能特点,盛科航新材料科
    01月08日
  • 盛科航高纯钒靶材钒块钒颗粒钒粉
    高纯钒是一种银灰色的金属。熔点1919℃,属于高熔点稀有金属之列,钒的密度为6.11克每立方厘米 纯钒具有展性,但是若含有少量的杂质,尤其是氮,氧,氢等,也能显著的降低其可塑性。
    01月08日
  • 研创新材氧化锌靶材氧化锌颗粒氧化锌粉末
    氧化锌(ZnO),俗称锌白,是锌的一种氧化物。难溶于水,可溶于酸和强碱。氧化锌是一种常用的化学添加剂,广泛地应用于塑料、硅酸盐制品、合成橡胶、润滑油、油漆涂料、药膏、粘合剂
    01月08日
  • 纯度999单质铬高纯铬靶材Cr靶溅射靶材
    铬是银白色有光泽的金属,纯铬有延展性,含杂质的铬硬而脆。密度7.20g/cm3。可溶于强碱溶液。铬具有很高的耐腐蚀性,在空气中,即便是在赤热的状态下,氧化也很慢。不溶于水。镀在金属上可起..
    12月02日
  • 高纯铜靶材铜颗粒高纯铜丝CuTarget
    高纯铜靶材 铜颗粒 高纯铜丝 Cu Target 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.99999%,..
    07月31日
  • 高纯镧靶材稀土金属靶材La靶材高纯镧块
    高纯镧靶材 稀土金属靶材 La靶材 高纯镧块 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.99999
    07月31日
  • 高纯硒靶材硒靶Se靶材
    高纯硒靶材 硒靶 Se靶材 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.99999%,领先国际先进水平
    07月31日
  • 高纯钐块钐颗粒钐靶材Sm99.9%
    高纯钐块 钐颗粒 钐靶材Sm 99.9% 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.99999%,领先国际
    07月31日
  • 北京瑞弛AlCr铝铬合金铝铬靶高纯度溅射靶材
  • 半导体用钴溅射靶材高纯钴颗粒Co9999
    半导体用钴溅射靶材高纯钴颗粒Co9999 半导体用钴溅射靶材一般纯度要求在4N99.99以上,制造方法基本是高纯钴粉先烧结成块,再通过高真空电子束熔炼炉获得高纯钴锭,然后对钴锭反复进行
    05月17日
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