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200.00元临沂研创新材料科技有限公司长期供应高纯铬靶材 铬颗粒 铬块 铬粉 纯度:99.95% 符号:Cr 原子量:51.996 熔点:1907℃ 沸点..01月08日
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800.00元高纯铬靶材高纯铬颗粒铬靶Cr Target 铝,高纯铝,高纯铝丝,高纯铝粒,高纯铝片,高纯铝靶,铝蒸发料,铝电极 铜,高纯铜,高纯铜丝,高纯铜片,高纯铜粒,铜靶,铜蒸发料,铜电极 铬,07月31日
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248.00元银白色金属,质极硬,耐腐蚀。密度7.20克/cm³ 。熔点1857±20℃,沸点2672℃ 盛科航新材料科技有限公司长期采用等静压工艺 制备高纯铬靶材 铬颗粒 铬块 雾化球形铬粉等等材 盛科航高纯合01月08日
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28.00元广泛应用于铝铸件及铜、锌铸件的表面精加工处理,各种金属表面的喷沙打磨,铸造工件的除毛边、毛刺,刃物表面、铸造制品表面的喷沙打磨等。可使您的产品平整、光洁、发亮、达到增白09月05日
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600.00元我们生产的不同纯度铬靶的杂质元素含量:纯度≥含量(%)≤FeSiAlCNOS99.2300025002000200500200010099.5200020001200200500150010099.7120010001000200300120010099.8100080060020020010001009..12月13日
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800.00元高纯镁靶材 金属镁颗粒 Mg Target 金属溅射靶材 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.907月31日
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85.00元品名 电解铬 牌号 99.99% 产地 河北 铬含量≥ 99.99(%) 品名:高纯铬块 计价单位:80元/kg 纯度:≥99.99% 规格:也可根据客户需求定制 包装:真空包装 运输方式:少..11月04日
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1764.00元我们生产的不同纯度铬靶的杂质元素含量:纯度≥含量(%)≤FeSiAlCNOS99.2300025002000200500200010099.5200020001200200500150010099.7120010001000200300120010099.8100080060020020010001009..12月15日
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1300.00元我们生产的不同纯度铬靶的杂质元素含量:纯度≥含量(%)≤FeSiAlCNOS99.2300025002000200500200010099.5200020001200200500150010099.7120010001000200300120010099.8100080060020020010001009..12月26日
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760.00元高纯铪是一种带光泽的银灰色金属,密度为13.31g/cm³,熔点为2233 ℃,沸点为4603 °C 盛科航新材料高纯铪具有耐高温、抗腐蚀、抗氧化、易加工、快速吸热和放热等性能特点,盛科航新材料科01月08日
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720.00元高纯钒是一种银灰色的金属。熔点1919℃,属于高熔点稀有金属之列,钒的密度为6.11克每立方厘米 纯钒具有展性,但是若含有少量的杂质,尤其是氮,氧,氢等,也能显著的降低其可塑性。01月08日
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800.00元氧化锌(ZnO),俗称锌白,是锌的一种氧化物。难溶于水,可溶于酸和强碱。氧化锌是一种常用的化学添加剂,广泛地应用于塑料、硅酸盐制品、合成橡胶、润滑油、油漆涂料、药膏、粘合剂01月08日
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850.00元铬是银白色有光泽的金属,纯铬有延展性,含杂质的铬硬而脆。密度7.20g/cm3。可溶于强碱溶液。铬具有很高的耐腐蚀性,在空气中,即便是在赤热的状态下,氧化也很慢。不溶于水。镀在金属上可起..12月02日
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600.00元高纯铜靶材 铜颗粒 高纯铜丝 Cu Target 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.99999%,..07月31日
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800.00元高纯镧靶材 稀土金属靶材 La靶材 高纯镧块 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.9999907月31日
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1200.00元高纯硒靶材 硒靶 Se靶材 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.99999%,领先国际先进水平07月31日
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500.00元高纯钐块 钐颗粒 钐靶材Sm 99.9% 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.99999%,领先国际07月31日
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半导体用钴溅射靶材高纯钴颗粒Co9999 半导体用钴溅射靶材一般纯度要求在4N99.99以上,制造方法基本是高纯钴粉先烧结成块,再通过高真空电子束熔炼炉获得高纯钴锭,然后对钴锭反复进行05月17日
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