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5800.00元内容摘要2020年光刻机市场规模xx亿元，到2021年光刻机市场规模达到了xx亿元，预计2028年将达到xx亿元，年复合增长率(cagr)为xx%。2020年中国光刻机市场规模xx亿元，到2021年中国光刻机市场规..12月29日
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7000.00元中国半导体封装光刻机市场发展状况及前景预测分析报告2024-2030年★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★【全新修订】：2024年11月【出版机构】：中智信投研究网【内容部分有删减·详细可参中智信投研究网出..12月28日
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中国光刻机行业调查分析及发展趋势预测报告2024-2030年 【报告编号】:47855 【出版时间】:2023年11月 【出版机构】:中信博研研究网 【报告价格】:印刷版6500元 电子版6800元 印刷版+电子版700..12月29日
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全自动接触式光刻机（紫外光刻机）4-12寸可选 （全国） 全自动单双面接近式曝光机，兼容方形片光刻 4-12寸晶圆单、双面曝光机 定制型 主要应用：MEMS制造、CMOS图像传感器、存储器、..12月23日
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1000000.00元全自动接触式光刻机可定制晶圆尺寸4-12寸 （上海） 全自动单 /双面接近式曝光机，兼容方形片光刻 4-12寸晶圆单、双面曝光机 灵活多选定制 主要应用：MEMS制造、CMOS图像传感器、存储器..12月23日
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2000000.00元EVG单双面键合光刻机 更多技术咨询及资料：13122976482 娄先生 上海（光刻机、620光刻机） EVG620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备，可以是半自动也可以配置为全自动形式。EVG620既可以用..12月09日
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3500000.00元更多资料咨询上海：娄经理 13122976482 产品名称：URE-2000/35型紫外光刻机 国产光刻机-URE-2000/35高对准精度光刻机 主要技术指标： 曝光面积：100mm×100mm 分辨力：1um（胶厚1.5μm的正..12月09日
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200.00元1：436nm g-line 可以满足0.8-0.35 微米制程芯片的生产，对应设备有接触式和接近式光刻机。 2：365nm i-line 同样可以满足0.8~0.35微米制程芯片的生产。设备于上相同。 早期的光..11月27日
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8.00元光刻机废水除氟-杜笙除氟树脂CH-87技术参数 光刻机到底是什么？ 了解详细信息，可添+V：WWJ20160326 作为芯片制造的重要设备，光刻机被认为是世界上制造领域技术的关键“命脉”..11月22日
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