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1200.00元氧化铝靶材Al2O3 Target 陶瓷溅射靶材 氧化铝颗粒 氧化铝靶材 三氧化二铝靶材 纯度：99.99% 分子式：Al2O3 分子量：101.96 CAS号：1344-28-1 密度：4 熔点：2045℃ 折射率:1.6-1.65..12月13日 -
1500.00元氧化镁靶材 MgO靶材 氟化镁靶材 陶瓷溅射靶材 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.907月31日
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800.00元高纯镁靶材 金属镁颗粒 Mg Target 金属溅射靶材 北京金源新材科技有限公司专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.907月31日
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165.00元其基本成分 Ni 95% Al 5%。状态为经过预合金化的实心丝。 955制备的结合底层存在于基体与工作涂层之间，良好的冶金结合既提高了与基体的结 合力又提供了一个粗糙的表面给工作层，对于07月02日
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480.00元锆(Zirconium)是一种金属元素，元素符号Zr，密度6.49g/cm³，熔点1852°C，沸点4377°C。锆是一种银白色过渡金属，因其制取工艺复杂，不易被提取，所以也常被称为“稀有金属”。事实上，锆在地壳中..01月02日
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二氧化硅（SiO2）靶材 材料 分子式 纯度 （%） 密度 （g/cm3） 形状与尺寸 二氧化硅 SiO2 99.99 2.21 圆片Φ18~30x7~18mm 圆环Φ200~350x7~18mm 石..11月10日
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86000.00元重庆半导体溅射靶材喷砂机可以根据要求量身定制，包括各系列喷砂房，直压型喷砂机、重力式喷砂机。改系列设备以稳定、安全、环保、节能为重点，以人为本，充分考虑工人操作、维修等02月09日
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88888.00元半导体溅射靶材背板喷砂机是一种清理工艺，该工艺主要去去除靶材背板上的金属材料、氧化皮，以保证在次投入使用，降低使用成本。该系列设备的做法可根据不同的工件进不非标设计，该02月01日
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350.00元我们是专业生产靶材的工厂，镍铬靶是我们工厂接单最多的产品，我们各种纯度、形状、成分的镍铬靶都可以定制。我们能提供的成分：NiCr7 wt%、NiCr10 wt%、NiCr20 wt%、NiCr30 wt%、 NiCr40 at%..12月26日
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630.00元纯镍是一种银白色金属，质坚硬，能高度磨光，具有良好的磁性，延展性和耐腐蚀性。镍在空气中很容易被空气氧化，表面形成有些发乌的氧化膜，因此人们见到的镍常颜色发乌。溶于硝酸后，呈绿色。..12月17日
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945.00元碳化钨靶材是一种由高纯钨和碳为原料构成的靶材，颜色为黑色六方，有金属光泽，硬度与金刚石相近，为电、热的良好导体，碳化钨不溶于水、盐酸和硫酸，易溶于硝酸-氢氟酸的混合酸中，纯的碳化..12月17日
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