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38600.00元小型磁控溅射仪主要特点/优势： ★ 玻璃钟罩真空腔室，直观的蒸发状态和薄膜沉积现象观察； ★ 两组水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计； ★ 真空..02月11日 -
39800.00元郑州科探仪器设备是定制物理 气相沉积（PVD）系统的设计者和制造商，客户服务和售后服务。拥有7年以上真空和薄膜沉积技术经验。其研发团队在学界科学家和工程师的支持下，高度积极地开发新设..08月02日
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面议磁控溅射镀膜是一种物理气相沉积技术，它涉及使用高能量的离子（通常是氩离子）轰击作为靶材的涂层材料，使其原子被溅射出来并沉积在工件表面形成薄膜。磁控溅射镀膜检测标准（部分）1、 T/GV..02月01日
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10000.00元二手稳压电源 中频电源20-60KW电源 直流电源二手弧电源 真空镀膜电源 输入相数：单相或三相 电压：220/380V 频率：50Hz 输入方式：4线（含地线） 输出波形：直线 功率：30KW /60KW /..01月23日
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实力源多弧+中频磁控溅射镀膜机:内腔直径1680*高度1200，主抽配置3台400中科仪分子泵+1台翠曼600罗次泵+2台70南光机械泵，辅抽配置一台翠曼300罗次泵+1台70南光机械泵，配置10个佳宁250A弧电..01月23日
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150000.00元内直径1900*高度1250实力源中频磁控溅射镀膜机两套出售 配3套400中科仪分子泵，3套70旋片泵，一套罗次泵，4路ae流量计 镀手机配件，钟表，首饰，五金零件，贵金属镀颜色膜，光学磁控溅射膜01月23日
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NSC-4000（M）磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达8"旋转平台，可支持4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 ..01月23日
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NSC-3500（A）全自动磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达到6"旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以..01月23日
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200.00元美国AE公司 中频电源PE II 性能： 1.程序自动保护功能 2.控制信号源：模拟/数字端口或前面板控制 3.调节模式：功率，电压或者电流 4.冷却及周围环境温度：进口端冷却水的温度在+5℃到+30 ..01月23日
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NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机：的全自动溅射系统带有水冷或者加热（可加热至700度）功能；8“旋转样平台,可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内..01月22日
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98000.00元二手韩一磁控溅射镀膜机/双靶磁控真空镀膜机/磁控光学镀膜机介绍 磁控溅射镀膜技术是一种的表面处理技术，被广泛应用于各种领域。它利用磁场和电场的相互作用，将靶材表面的电子从束缚状态激..12月21日
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43800.00元金属镀膜磁控溅射薄膜监测，7寸人机界面，自动手动模式切换控制，大功率1000w直流磁控溅射 单靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与..08月18日
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36800.00元KT-Z1650CVD是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小，功能。配备有电压电流反馈，样口台旋转样高度可调节，及电动挡板功能。通过定时调节预热功率蒸发功率，可对大部分金属进地均匀..03月27日
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35600.00元离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛,通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象,并提高观测效率,另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳,实现不导电样品的能谱仪元..03月22日
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1008.00元钛铝合金靶材我们能提供的成分：TiAl5 at%,TiAl10 at%,TiAl20 at%,TiAl25 at%,TiAl 30 at%,TiAl40 at%,TiAl50 at%等...我们能提供的纯度：99.5%、99.7%、99.8%、99.9%、99.95%、99.99%我们的..12月16日
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