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该立式化学气相沉积炉可用于以硅烷为气源的材料表面抗氧化涂层、基体改性等。 技术特征 采用先进的控制技术，能精密控制MTS的流量和压力，炉膛内沉积气流稳定，压力波动范围小；01月15日 -
化学气相沉积炉（沉积炭）可用于以碳氢气体（如C3H8等）为碳源的材料表面或基体等温CVD/CVI处理。 技术特征 可根据客户需求设计尺寸，能满足超大型工件化学气相沉积处理需求； 采用多05月27日
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立式化学气相沉积炉（沉积炭）可用于以碳氢气体（如C3H8等）为碳源的材料表面或基体等温CVD/CVI处理。 技术特征 根据炉膛尺寸与结构设置温区，温度均匀性好； 采用特殊结构沉积室，密05月27日
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真空感应化学气象沉积炉哪家好，真空熔炼炉代理产品详情 真空感应化学气相沉积炉是在真空或保护气氛下，利用中频感应原理将置于感应线圈内的石墨坩埚加热，石墨坩埚中放入被制备的03月31日
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1.00元供应石墨烯气相沉积法鸿峰牌CVD系统 该设备为咸阳鸿峰窑炉设备有限公司自主设计的化学气相沉积炉，主要针对石墨烯薄膜的连续式沉积，属于宏量制备系统。 设备特点： 1.该设备可以实02月28日
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39800.00元郑州科探仪器设备是定制物理 气相沉积（PVD）系统的设计者和制造商，客户服务和售后服务。拥有7年以上真空和薄膜沉积技术经验。其研发团队在学界科学家和工程师的支持下，高度积极地开发新设..06月14日
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100.00元设备名称：鸿峰牌CVD设备化学气相沉积炉 设备用途： 真空CVD设备&化学法气相沉积实验炉主要用于实验室新型炭材料和膜材料的化学沉积实验,属于管式高温回转炉。 该设备烧结温03月12日
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100.00元石墨烯薄膜连续沉积炉(HF-RG系列) 1. 炉体为一体式设计，人性化布局，具有结构紧凑，外观简洁大方，操作方便等优点。 2. HF-RZ系列转炉属于动态煅烧炉，相对于静态匣钵装载煅烧的方式，能04月25日
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4.90元ANNUO锅炉阻垢剂添加： 按每吨水加200g药剂的比例加入锅炉补充水中即可，使用时注意排污，要求每小时排污一次，每次5～10秒，如锅炉带垢运行可加大药剂用量，勤排污，运行10～20天后应停炉，..01月20日
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4.90元锅炉中的水经过长时间使用，容易产生水垢，不仅影响水质，更会影响锅炉的使用效率。因此，锅炉防腐型缓蚀阻垢剂成为很多厂家的常备水处理药剂。反渗透膜阻垢分散剂： 反渗透膜是反渗透系统的..01月20日
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4.90元ANNUO缓蚀阻垢剂简要介绍: 缓蚀阻垢剂是由有机磷酸、聚羧酸、碳钢缓蚀剂及铜缓蚀剂复配而成的缓蚀阻垢剂，对水中的碳酸钙、SO4＋等均有很好的螯合分散作用并且对碳钢、铜具有良好的缓蚀效果。..01月20日
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4.90元锅炉中的水经过长时间使用，容易产生水垢，不仅影响水质，更会影响锅炉的使用效率。因此，锅炉防腐型缓蚀阻垢剂成为很多厂家的常备水处理药剂。ANNUO缓蚀阻垢剂简要介绍: 缓蚀阻垢剂是由有机..01月20日
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4.90元ANNUO缓蚀阻垢剂的适用场所： 医药、化工、食品饮料（酒厂、品、乳制品、酱油等）、电 厂锅炉、电子、化妆品、半导体、精密机械、精细化工、海水淡化、造纸厂、化肥厂、轻纺、学校、、酒店、..01月20日
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4.90元ANNUO锅炉阻垢剂添加： 按每吨水加200g药剂的比例加入锅炉补充水中即可，使用时注意排污，要求每小时排污一次，每次5～10秒，如锅炉带垢运行可加大药剂用量，勤排污，运行10～20天后应停炉，..01月20日
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4.90元反渗透膜阻垢分散剂： 反渗透膜是反渗透系统的关键设备，系统长时间连续运行时，水中钙镁等离子会不断析出并在反渗透膜表面附着，形成结垢堵塞膜孔，这样会影响反渗透系统的出水效率，损坏反..01月20日
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4.90元反渗透膜阻垢分散剂： 反渗透膜是反渗透系统的关键设备，系统长时间连续运行时，水中钙镁等离子会不断析出并在反渗透膜表面附着，形成结垢堵塞膜孔，这样会影响反渗透系统的出水效率，损坏反..01月20日
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4.90元存放和使用： 使用ANNUO缓蚀阻垢剂的工厂要注意，对于已经开封的阻垢剂，要及时进行密封，防止水蒸汽、灰尘和其它杂质进入桶内，影响阻垢剂的质量。所以存放阻垢剂都要注意避光保存，防止长时..01月20日
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4.90元ANNUO锅炉阻垢剂添加： 按每吨水加200g药剂的比例加入锅炉补充水中即可，使用时注意排污，要求每小时排污一次，每次5～10秒，如锅炉带垢运行可加大药剂用量，勤排污，运行10～20天后应停炉，..01月20日
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4.90元锅炉中的水经过长时间使用，容易产生水垢，不仅影响水质，更会影响锅炉的使用效率。因此，锅炉防腐型缓蚀阻垢剂成为很多厂家的常备水处理药剂。反渗透膜阻垢分散剂： 反渗透膜是反渗透系统的..01月20日
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