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等离子喷涂氧化钇粉半导体晶圆蚀刻机腔室清洗用

更新时间:2024-12-17 04:09:05 信息编号:b41oq0550d44e4
等离子喷涂氧化钇粉半导体晶圆蚀刻机腔室清洗用
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  • 郑州振中

  • 按客户要求制动

  • 体晶圆蚀刻机腔室,氧化钇喷涂粉,等离子喷涂

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详情介绍

等离子喷涂氧化钇粉半导体晶圆蚀刻机腔室清洗用

产品别名
蚀刻用氧化钇粉,氧化钇喷涂粉
面向地区
产地
郑州振中
粒度(目)
按客户要求制动
目数
600
品级
其它
品名
氧化钇

振中的高纯氧化钇(99.9%)是一种团聚烧结的高纯Y2O3粉末,该粉体在极其严格的质量控制下生产,采用了振中特的分级技术和热处理技术,颗粒尺寸和颗粒强度都被严格控制在理想状态,确保粉体具备高的纯度,涂层白度高,无论在模具钢还是铝合金上都可以实现较高的沉积效率,涂层硬度平均超过600HV,在模具钢上低的涂层孔隙率可以控制到0.4%以下。

高纯氧化钇喷涂粉主要应用于:半导体晶圆蚀刻机腔室及其零部件表面的陶瓷熔射(等离子喷涂)涂层修复、TFT液晶面板蚀刻设备陶瓷熔射涂层处理。以蚀刻机为例需要熔射处理的主要部件如下:蚀刻机内腔室壁、 静电吸盘、聚焦环、气体注入器、室衬垫、基板支撑件、介电窗、环状构件、夹紧装置、匀气盘,晶圆罩环等。

郑州振中电熔新材料有限公司 4年

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  • 河南省郑州市新密市苟堂镇郑州电熔新材料有限公司

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