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真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空电阻加热蒸发,电子枪加热蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积,离子束溅射等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
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真空镀膜设备主要指需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括多弧离子真空镀膜设备,真空离子蒸发,光学镀膜机,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。真空镀膜的工作原理是膜体在高温下蒸发落在工件表面结晶。由于空气对蒸发的膜体分子会产生阻力造成碰撞使结晶体变得粗糙无光,所以在高真空下才能使结晶体细密光亮,如果真空度不高结晶体就会失去光泽结合力也很差。早期真空镀膜是依靠蒸发体自然散射,结合差工效低光泽差。现在加上中频磁控溅射靶用磁控射靶将膜体的蒸发分子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜,解决了过去自然蒸发无法加工的膜体品种,如镀钛镀锆等等。
真空镀膜系统用途:主要用于太阳能电池钙钛矿、OLED和PLED、半导体制备等实验研究与应用。现有的真空镀膜机,主要用于一些放气量较少的普通玻璃上镀膜,由于大面积有机玻璃放气量较大,热变形温度低,刚性低,因此现有的真空镀膜机无法镀制大面积有机玻璃。现有的镀膜机蒸发源间呈正方形分布,这样镀出的膜层均匀性差,无法大面积有机玻璃在镀制过程中不变形。为了克服现有技术之不足,提供一种真空镀膜系统,本系统由真空镀膜系统和真空手套箱系统集成而成,可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀,并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。
蒸发镀膜与真空手套箱组合,实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作,使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中,消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响,保障了、大面积有机光电器件和电路的制备。
主营行业:发电机回收 |
公司主营:发电机回收,二手冷水机组--> |
主营地区:全国 |
企业类型:私营有限责任公司 |
公司成立时间:2017-11-11 |
员工人数:51 - 100 人 |
研发部门人数:5 - 10 人 |
经营模式:服务型 |
经营期限:2017-11-11 至 2030-01-01 |
最近年检时间:2020年 |
年营业额:人民币 500 万元/年 - 700 万元/年 |
年出口额:人民币 10 万元/年以下 |
年进口额:人民币 10 万元/年以下 |
是否提供OEM:否 |
公司邮编:518000 |