濮阳过期氧氯化锆回收

深圳市华宇金属材料有限公司位于深圳市的中部工业发达区龙华。公司产品延续深圳市新兴金属科技有限公司，创建于2005年，向PCB电镀、化工厂家、化工设备，真空离子镀膜、吸气剂、铬锆铜合金、磁性材料，铝锆中间合金，等离子切割等领域的厂家供应有色金属的钛，锆，铪，铌，钽等的原材料及产品：
1）金属钛、结晶钛、钛板，钛丝、钛棒、钛卷带、钛箔、钛篮、钛包铜、钛管、钛冷却管、钛螺丝等。
2）金属锆、高纯锆、海绵锆，碘化锆、结晶锆、锆锭、锆篮、锆靶、锆屑、锆边角、锆棒、锆板、锆管、锆钢反应釜罐，锆盘管，锆冷却管，锆丝、锆箔、锆带、锆舟、锆杯、锆螺丝、锆包铜，锆铁，铝锆中间合金等。
3）结晶铪，高纯铪，海绵铪，铪丝、铪靶、铪棒、铪下角料、铪锭、铪屑等。4）金属钽，钽板，钽丝，钽棒，钽靶等。
5）金属铌，铌锭，铌板，铌棒，铌板，铌粉等。
公司和内地、台湾、韩国、泰国的许多企业建立了长期的合作关系。公司秉诚以诚信为本、质量、用户至上的经营理念，坚持“诚实守信，精益求精”的精神宗旨，竭诚为广大厂商提供的产品和服务，确保公司与客户的持续发展。

金属靶材：
镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等金属溅射靶材。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、AZO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶等陶瓷溅射靶材。
3.合金靶材
镍铬合金靶、镍钒合金靶、铝硅合金靶、镍铜合金靶、钛铝合金、镍钒合金靶、硼铁合金靶、硅铁合金靶等高纯度合金溅射

合金靶材
铁钴靶FeCo、铝硅靶AlSi、钛硅靶TiSi、铬硅靶CrSi、锌铝靶ZnAl、钛锌靶材TiZn、钛铝靶TiAl、钛锆靶TiZr、钛硅靶TiSi、钛镍靶TiNi、镍铬靶NiCr、镍铝靶NiAl、镍钒靶NiV、镍铁靶NiFe等。 [1]
锆靶，铪靶，锆管靶，锆板靶，钛板靶，钛板

可根据用户需要制作。
锆盘管换热器:
规格；标准规格，功率有1.5KW-50KW,
形态；根据加热功率，可制成“L”型，“U” “0"型等，并可附有过热保护装置。
用途；适用于钛无法胜任的酸、碱介质中（氢氟酸除外）。
在聚合物的生产中，锆的应用是代替石墨作热交换器。锆热交换器的成本虽比石墨约高4倍，比钛约高 2倍，但它足以弥补成本费。

名　　称：锆管
规　　格：Φ8.0—89.0（外直径）╳ 1.0—10.0（壁厚）╳ L（长）mm
状　　态：退火
主要性能： 抗拉强度HB>379Mpa 导热率=0.040Cal/cm2 （可以弯成需要的形状）
应用领域：油箱盘管、壳管热交换器、热虹吸管、蒸发器、卡口加热器和人造丝丝囊、管壳式换热器,列管式换热器,加热管,管式预热器、化工设备反应釜盘管等。
例如：在蒸气压力为239000Pa，温度为373K，管中流体含5%硫酸、3%、6%硫酸钠的条件下，用锆盘管代替铅盘等，使用寿命在10年以上。

磁控溅射靶材：锆靶，铪靶
磁控溅射靶材种类：
金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材，氮化物陶瓷溅射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材，硅化物陶瓷溅射靶材，硫化物陶瓷溅射靶材，碲化物陶瓷溅射靶材，其他陶瓷靶材，掺铬一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO），磷化铟靶材（InP），化铅靶材（PbAs），化铟靶材（InAs）。 [2]


磁控溅射原理：
在被溅射的靶极（阴极）与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体（通常为Ar气），磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还可进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，如今，常用的有电子回旋共振(ECR）型微波等离子体溅射。