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真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。真空镀膜机主要应用范围很广。低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至110mA时，左旋钮"1"旋转至指向2区段测量位置。当高压真空表“5”内指针逆时针移动超过6.7Pa时，开工件旋转钮开关，钟罩内被镀件PVDF膜转动。
真空镀膜技术所使用的原材料非常广泛，主要有单质元素、化合物、无机材料或有机材料等。真空镀膜技术主要有气相生成法、氧化法、扩散法、电镀法、离子注入法等。其中，气相生成法又可分为物理气相沉积法（PVD）、化学气相沉积法（CVD）和放电聚合法等。真空镀膜技术只有通过真空镀膜设备才能实现，根据真空镀膜技术的不同，大致可分为PVD镀膜设备、CVD镀膜设备、磁控溅射镀膜设备等。
刚步入真空行业的新人们，把真空设备买回去却不知道怎么使用，接下来我们来详细的说一下真空镀膜机的使用方法：真空镀膜机是目前制作真空应用比较广泛的设备之一，随着镀膜技术的快速增长，各种类型的真空镀膜机也开始陆陆续续的出现。它的工作原理很简单，正是因为它自身的许多优势特点，所以它的使用范围也越来越广。
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