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真空镀膜设备存有着气密性差的问题，假如镀膜设备维护保养进行后，能做一次气密性试验，就可以规避许多不合格产品的造成，做到节省成本费用的效果。
镀膜设备应该在高真空下工作，真空值的优劣可以直接危害表层的镀膜的质量。有时镀膜设备的真空值抽不出来或是真空值不太好，可能是连接头松脱或是有焊接发生脱焊。传统式的气密性试验方式应该镀膜设备关机，充氮，再在猜测有漏的位置涂上肥皂泡，整个过程用时费事极易错判，针对微小的泄露没法检验。诺益氦质谱检漏仪运用氦气做为示踪气体，小漏率低于5E-13Pam3/s，安全环保，检漏时无需关机，立即在机械泵的旁通连接测漏仪便可以迅速有效的进行检验了。
有些真空镀膜机真空计的读数，与气体种类有关，比如热偶计，电离真空计。选用适当的气体或液体做示漏物质，这些真空计便成了探测器，一般镀膜机上都有真空计，使用起来很方便，也是常用到的一种检漏方法。用于热偶计的示漏物质有，二氧化碳，丁烷，酒精等热偶计反应较慢，观察要很仔细。用于电离计的示漏物质有氦，氩，酒精等。
真空系统是镀膜机达到工艺条件的基本设备，其真空度达不到或者达到真空度速度慢，都有可能是由于存在漏点所致，所以真空卷绕镀膜机设备的真空系统需要定期真空检漏。真空卷绕镀膜机通常采用氦质检漏仪来查漏，主要用负压法检漏即将氦质谱检漏仪的检漏口接入镀膜机的真空系统，在可能泄漏地方喷氦检漏。
真空镀膜工艺在信息存储范畴中的运用薄膜资料作为信息记载于存储介质，有其得天厚的优势：因为薄膜很薄能够疏忽涡流损耗；磁化回转极为敏捷；与膜面平行的双稳态状况简单保持等。为了更精细地记载与存储信息，必定要选用镀膜技能。
真空镀膜工艺在传感器方面的运用在传感器中，多选用那些电气性质相关于物理量、化学量及其变化来说，极为敏感的半导体资料。此外，其中大多数运用的是半导体的外表、界面的性质，需求尽量增大其面积，且能工业化、低报价制造、因而选用薄膜的状况许多。
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