吉首氧化锆珠回收

稳定性氧化锆
外　　观： 白色粉末
性　　质： 、无味，化学性质稳定，热导率低，耐热冲击性好。
用　　途： 适用于制造各类机械部件、切削工具、、结构陶瓷、电子陶瓷、生物陶瓷、耐火材料、光通讯器件、氧传感器、固体氧燃料电池等。

金属靶材：
镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等金属溅射靶材。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、AZO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶等陶瓷溅射靶材。
3.合金靶材
镍铬合金靶、镍钒合金靶、铝硅合金靶、镍铜合金靶、钛铝合金、镍钒合金靶、硼铁合金靶、硅铁合金靶等高纯度合金溅射

磁控溅射原理：锆靶在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。 磁控溅射一般分为二种：支流溅射和射频溅射，其中支流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。

主要应用
编辑
溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、装饰用品等行业。
分类
根据形状可分为方靶，圆靶，异型靶
根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等
根据应用领域分为微电材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、封装靶材、其他靶材
锆板，锆圆靶，锆管靶，锆靶，钛靶，铬靶

合金靶材
铁钴靶FeCo、铝硅靶AlSi、钛硅靶TiSi、铬硅靶CrSi、锌铝靶ZnAl、钛锌靶材TiZn、钛铝靶TiAl、钛锆靶TiZr、钛硅靶TiSi、钛镍靶TiNi、镍铬靶NiCr、镍铝靶NiAl、镍钒靶NiV、镍铁靶NiFe等。 [1]
锆靶，铪靶，锆管靶，锆板靶，钛板靶，钛板

锆换热器产品介绍:
现在的搪瓷釜由于介质的腐蚀性、反应条件忽冷忽热等问题，总会出现这样那样的搪瓷层损坏。一旦出现爆瓷现象,搪瓷面的损坏会迅速扩大，繁琐的修补,停产,安全事故及环境污染等不可预计的损失一直困扰着国内众多化工企业.
取代搪瓷釜的金属锆盘管换热器,解决化工行业所使用的搪瓷釜爆瓷,搪瓷面的损坏，不易修复(或者修复成本高)而报废的成本问题.由于金属锆材优良的导热性和强耐腐蚀性,在加热,冷却两道工序上有效的缩短了生产时间,并且它特有的强耐腐蚀性这一特点,从而了生产中不被各种工况的腐蚀性所腐蚀的要求,在生产旺季为生产出货,创造了宝贵的时间,并且提高了产量,真正实现换热设备零维护.
本产品已经在国内,外大型农药化工,医药化工,石化等行业投入使用,反应良好,欢迎有此需求,有此困扰的客户来电咨询,洽谈,我公司将在时间回复,配合.给予设备,技术上的支持.

磁控溅射靶材：锆靶，铪靶
磁控溅射靶材种类：
金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材，氮化物陶瓷溅射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材，硅化物陶瓷溅射靶材，硫化物陶瓷溅射靶材，碲化物陶瓷溅射靶材，其他陶瓷靶材，掺铬一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO），磷化铟靶材（InP），化铅靶材（PbAs），化铟靶材（InAs）。 [2]


磁控溅射原理：
在被溅射的靶极（阴极）与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体（通常为Ar气），磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还可进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，如今，常用的有电子回旋共振(ECR）型微波等离子体溅射。

化工反应釜的工作方式：
一般与瑭玻璃钢反应釜配合，作蒸汽加热或水冷却之用。管内大压力根据臂厚不同可承受压力６～２０㎏，换热面积按设计要求制作。
1、程度远比（搪玻璃反应釜）高出３－５倍（一但搪玻璃釜内胆磕碰，掉釉，寿命只有4-12个月）
2、加热或冷却效率比（搪玻璃反应釜）在单位容器，单位时间快6个小时，也就是说如果改用锆盘管换热，两台釜可以出来三台的产量。
3、我公司有丰富的改装，维护，施工经验。
如果有对此产品有兴趣的朋友可以给我电话，一起探讨，用锆材的换热器价格肯定比搪玻璃的贵，比方一套6300L的釜，使用R60702锆材盘管换热器价格大概15W，但是经过我公司改装过的和新上这种设备的客户在使用后，对本产品都是肯定的，贵的值得，贵的有道理，不论是在经济上（假以时日锆换热器还是比搪玻璃经济），还是在生产（产量），维护上（零维护），比使用搪玻璃换热的要好的多

锆的表面易形成一层氧化膜，具有光泽，故外观与钢相似。有耐腐蚀性，但是溶于氢氟酸和王水；高温时，可与非金属元素和许多金属元素反应，生成固体溶液化合物。锆 锆单质
的可塑性好，易于加工成板、丝等。锆在加热时能大量地吸收氧、氢、氮等气体，可用作储氢材料。锆的耐蚀性比钛好，接近铌、钽。锆与铪是化学性质相似、又共生在一起的两个金属，且含有物质。地壳中锆的含量居第19位，几乎与铬相等。自然界中具有工业价值的含锆矿物，主要有锆英石及斜锆石。

锆是一种稀有金属，具有惊人的抗腐蚀性能、的熔点、的硬度和强度等特性，被广泛用在航空航天、、核反应、原子能领域。本次"神六"上使用的抗腐蚀性、耐高的钛产品，其抗腐蚀性能远不如锆，其熔点1600度左右，而锆的熔点则在1800度以上，二氧化锆的熔点更是高达2700度以上，所以锆作为航空航天材料，其各方面的性能大大于钛。