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真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。真空镀膜机主要应用范围很广。低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至110mA时，左旋钮"1"旋转至指向2区段测量位置。当高压真空表“5”内指针逆时针移动超过6.7Pa时，开工件旋转钮开关，钟罩内被镀件PVDF膜转动。

真空镀膜机镀前预处理和镀后处理方法
镀前预处理

镀前预处理的目的是为了得到干净新鲜的金属表面，为后获得镀层作准备，要进行脱脂、去锈蚀、去灰尘等工作。

步骤如下：

步：使表面粗糙度达到一定要求，可通过表面磨光、抛光等工艺方法来实现；

第二步：去油脱脂，可采用溶剂溶解以及化学、电化学等方法来实现；

第三步：除锈，可用机械、酸洗以及电化学方法除锈；

第四步：活化处理，一般在弱酸中侵蚀一定时间进行镀前活化处理。

真空镀膜技术所使用的原材料非常广泛，主要有单质元素、化合物、无机材料或有机材料等。真空镀膜技术主要有气相生成法、氧化法、扩散法、电镀法、离子注入法等。其中，气相生成法又可分为物理气相沉积法（PVD）、化学气相沉积法（CVD）和放电聚合法等。真空镀膜技术只有通过真空镀膜设备才能实现，根据真空镀膜技术的不同，大致可分为PVD镀膜设备、CVD镀膜设备、磁控溅射镀膜设备等。

目前，我国已经形成了完善的真空镀膜设备的产业链。产业链上游主要是原材料和零部件供应商，主要是提供金属、化合物等原材料；中游是真空镀膜设备制造商，主要负责真空镀膜设备的研发和生产；下游主要是应用领域，多应用于消费电子、集成电路、汽车等。

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