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化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。
工件常用的除气方法是烘烤。工件中的气体和水分通过加热排出。涂装前，工件边抽边加热。当工件中的水分和气体因受热而释放出来时，它们与真空室中的气体一起被真空泵抽出。针对不同的工件采取不同的脱气措施，可以有效控制工件内部气体和水的排放，提高涂层的稳定性和均匀性。
